Cátodos para sputtering de óxido de magnesio

Cátodos para sputtering de óxido de magnesio

Purity: 99.9%

  • Tamaños personalizados y estándar en stock
  • Precio competitivo
  • Plazo de entrega rápido

  • Cátodos para sputtering de óxido de magnesio is a ceramic material used in physical vapor deposition (PVD) processes to create thin films with insulating, optical, or dielectric properties. It offers high thermal stability, excellent insulation performance, and strong resistance to chemical corrosion, making it a reliable choice for coating applications in electronics, optics, and semiconductor industries. This target is typically used for depositing MgO films on substrates like glass, silicon, or metal to improve electrical insulation or optical reflectivity. We can supply high-quality magnesium oxide sputtering target with various specifications and competitive prices, offering customized solutions to meet specific requirements.
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Magnesium Oxide Sputtering Target Data Sheet

Código de referencia:

HTST37

Color:

White or yellow

Fórmula química:

MgO

Densidad:

3,20 g/cm3

Dimensión:

personalizado

Forma:

Disc/Rectangular/Tube or customized

Bonding:

Bonding/Unbonding

Magnesium Oxide Sputtering Target Description

Magnesium oxide sputtering target is widely used in thin film deposition for its excellent dielectric strength, high melting point, and chemical inertness. It enables the formation of stable, uniform coatings in various applications, including optical layers, barrier films, and electronic components. Its compatibility with different substrate materials and ability to perform under high-vacuum and high-temperature conditions make it a dependable material in PVD processes.

Magnesium Oxide Sputtering Target Specifications

Circular Sputtering Targets

Diámetro

1.0”, 2.0”, 3.0”, 4.0”, 5.0”, 6.0” up to 21”

Rectangular Sputtering Targets

Width x Length

5” x 12”, 5” x 15”, 5” x 20”, 5” x 22”, 6” x 20”

Espesor

0.125”, 0.25”

Magnesium Oxide Sputtering Target Features

  1. High Purity: Offers excellent chemical stability and minimizes contamination during thin film deposition.
  2. Strong Thermal Stability: Maintains structural integrity at elevated temperatures during sputtering processes.
  3. Good Electrical Insulation: Ideal for applications requiring high dielectric strength and minimal conductivity.
  4. Uniform Film Formation: Ensures consistent and smooth thin film layers across various substrates.
  5. Customizable Dimensions: Available in various shapes and sizes to meet different equipment and process requirements.

Magnesium Oxide Sputtering Target Applications

  • Optical Coatings: Used to deposit MgO thin films on lenses, mirrors, and optical devices to enhance reflectivity and durability.
  • Semiconductor Fabrication: Applied in thin film transistors and insulating layers due to its excellent dielectric properties.
  • Magnetic Storage Media: Forms part of multilayer structures in hard drives and magnetic sensors.
  • Display Technologies: Utilized in the production of thin film coatings for OLED and LCD display panels.
  • Protective Coatings: Serves as a barrier layer against corrosion and oxidation in various industrial applications.
  • Fundición de metales
    Fundición de metales
  • Dispositivos electrónicos
    Dispositivos electrónicos
  • Técnicas de gestión térmica
    Técnicas de gestión térmica
  • Aplicaciones aeroespaciales HM
    Aeroespacial

Propiedades del óxido de magnesio

Propiedad

Valor

Unidad

Gravedad específica (G.E.)

3.58

g/cm³

Porosidad

10

%

Dureza Vickers (HV1)

650

HV

Resistencia a la flexión

105

MPa

Resistencia a la compresión

275

MPa

Módulo de Young

2.1 x 10¹¹

Pa (N/m²)

Resistencia a la fractura

1.8

MPa-m^1/2

Propiedad

Valor

Unidad

Coeficiente de dilatación térmica

40℃ a 400℃

10.0 × 10-⁶

/°C

40℃ a 800℃

10.5 × 10-⁶

/°C

Conductividad térmica

42

W/m-K

Calor específico

0.92

J/g-°C

Rigidez dieléctrica (resistencia al choque térmico)

17

kV/mm

Propiedad

Valor

Unidad

Resistividad volumétrica

A 20°C

> 1014

Ω-cm

A 500°C

> 108

Ω-cm

Permittividad (constante dieléctrica)a 1 MHz

9.8

C²/(N-m²) o (sin dimensiones)

Tangente de pérdida dieléctricaa 1 MHz

1 × 10-⁴

–

Mecanizado cerámico de óxido de magnesio

Mecanizado cerámico de óxido de magnesio

El óxido de magnesio puede mecanizarse en estado verde o bizcocho antes de la sinterización y, en menor medida, en su estado totalmente sinterizado. En su estado presinterizado, el material es relativamente blando y más fácil de moldear, pero como muchas cerámica, El óxido de magnesio sinterizado es muy duro y quebradizo, por lo que requiere herramientas de diamante y equipos de precisión para cualquier mecanizado posterior a la sinterización. El óxido de magnesio totalmente sinterizado es muy duro y quebradizo, por lo que requiere herramientas de diamante y equipos de precisión para cualquier mecanizado posterior a la sinterización.

Métodos de mecanizado y consideraciones

  • Mecanizado en verde o bizcocho: Más fácil de cortar y moldear, adecuado para formas complejas antes de la cocción.
  • Contracción por sinterización: Se espera una reducción dimensional de unos 15-20% durante la sinterización, lo que repercute en el control de la tolerancia.
  • Mecanizado posterior a la sinterización: Requiere herramientas de rectificado de diamante debido a la dureza y fragilidad del material.
  • Fragilidad: El MgO totalmente sinterizado es propenso a astillarse y fracturarse si no se manipula con cuidado durante el mecanizado.
  • Herramientas y tiempo: El mecanizado de cerámicas densas de MgO requiere mucho tiempo y equipos especializados.

Envases cerámicos de óxido de magnesio

Los productos cerámicos de óxido de magnesio suelen envasarse en bolsas selladas al vacío para evitar la humedad o la contaminación y se envuelven con espuma para amortiguar las vibraciones y los impactos durante el transporte, lo que garantiza la calidad de los productos en su estado original.

envasado de productos cerámicos HM

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  • Ficha técnica del óxido de magnesio_PDS
  • HOJA DE DATOS DE SEGURIDAD (FDS) - Óxido de magnesio cerámico

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To customize your magnesium oxide sputtering target, please provide the following details:

  • Dimensiones: Longitud, Anchura, Diámetro, Espesor, etc.
  • Forma: Rectangular, round, or tube.
  • Tolerancias: Especifique las tolerancias requeridas.
  • Pureza of the sputtering target
  • Aplicación: Indique la aplicación o el sector previstos.
  • Backing Plate: If bonding service is required, please specify the material and dimensions of the backing plate.
  • Cantidad de los productos que necesita
  • Alternativamente, puede proporcionar un dibujo con sus especificaciones.

Una vez que tengamos estos datos, podremos proporcionarle un presupuesto en 24 horas. proporcionarle un presupuesto en 24 horas.

Disponemos de una amplia variedad de productos cerámicos de grafito en stock y, por lo general, no se requiere un pedido mínimo. Sin embargo, para los pedidos personalizados, solemos fijar un valor mínimo de pedido de $200. El plazo de entrega de los artículos en stock suele ser de 1 a 2 semanas, mientras que el de los pedidos personalizados suele ser de 3 a 4 semanas, dependiendo de las características específicas del pedido.

A magnesium oxide sputtering target is used to deposit thin MgO films onto substrates for applications in optics, semiconductors, magnetic storage, and display technologies.

Yes, due to its insulating nature, magnesium oxide is commonly used with RF sputtering systems.

Advanced Ceramic Hub, fundada en 2016 en Colorado (EE. UU.), es un proveedor y fabricante especializado en productos de grafeno. Con una amplia experiencia en suministro y exportación, ofrecemos precios competitivos y soluciones personalizadas adaptadas a requisitos específicos, garantizando una calidad excepcional y la satisfacción del cliente. Como proveedor profesional de cerámicas, metales refractarios, aleaciones especiales, polvos esféricos y diversos materiales avanzados, atendemos las necesidades de investigación, desarrollo y producción industrial a gran escala de los sectores científico e industrial.

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