Cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium

Cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium

Purity: 99.9%

  • Dimensions sur mesure et dimensions standard en stock
  • Prix compétitif
  • Délai d'exécution rapide

  • Cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium is a ceramic material used in physical vapor deposition (PVD) processes to create thin films with insulating, optical, or dielectric properties. It offers high thermal stability, excellent insulation performance, and strong resistance to chemical corrosion, making it a reliable choice for coating applications in electronics, optics, and semiconductor industries. This target is typically used for depositing MgO films on substrates like glass, silicon, or metal to improve electrical insulation or optical reflectivity. We can supply high-quality magnesium oxide sputtering target with various specifications and competitive prices, offering customized solutions to meet specific requirements.
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Magnesium Oxide Sputtering Target Data Sheet

Code de référence :

HTST37

Couleur :

White or yellow

Formule chimique :

MgO

Densité :

3,20 g/cm3

Dimension :

personnalisé

Forme :

Disc/Rectangular/Tube or customized

Bonding:

Bonding/Unbonding

Magnesium Oxide Sputtering Target Description

Magnesium oxide sputtering target is widely used in thin film deposition for its excellent dielectric strength, high melting point, and chemical inertness. It enables the formation of stable, uniform coatings in various applications, including optical layers, barrier films, and electronic components. Its compatibility with different substrate materials and ability to perform under high-vacuum and high-temperature conditions make it a dependable material in PVD processes.

Magnesium Oxide Sputtering Target Specifications

Circular Sputtering Targets

Diamètre

1.0”, 2.0”, 3.0”, 4.0”, 5.0”, 6.0” up to 21”

Rectangular Sputtering Targets

Width x Length

5” x 12”, 5” x 15”, 5” x 20”, 5” x 22”, 6” x 20”

Épaisseur

0.125”, 0.25”

Magnesium Oxide Sputtering Target Features

  1. Haute pureté : Offers excellent chemical stability and minimizes contamination during thin film deposition.
  2. Strong Thermal Stability: Maintains structural integrity at elevated temperatures during sputtering processes.
  3. Good Electrical Insulation: Ideal for applications requiring high dielectric strength and minimal conductivity.
  4. Uniform Film Formation: Ensures consistent and smooth thin film layers across various substrates.
  5. Personnalisable Dimensions : Available in various shapes and sizes to meet different equipment and process requirements.

Magnesium Oxide Sputtering Target Applications

  • Optical Coatings: Used to deposit MgO thin films on lenses, mirrors, and optical devices to enhance reflectivity and durability.
  • Semiconductor Fabrication: Applied in thin film transistors and insulating layers due to its excellent dielectric properties.
  • Magnetic Storage Media: Forms part of multilayer structures in hard drives and magnetic sensors.
  • Display Technologies: Utilized in the production of thin film coatings for OLED and LCD display panels.
  • Protective Coatings: Serves as a barrier layer against corrosion and oxidation in various industrial applications.
  • Fusion de métaux
    Fusion de métaux
  • Appareils électroniques
    Appareils électroniques
  • Techniques de gestion thermique
    Techniques de gestion thermique
  • Applications aérospatiales HM
    Aérospatiale

Propriétés de l'oxyde de magnésium

Propriété

Valeur

Unité

Gravité spécifique (S.G.)

3.58

g/cm³

Porosité

10

%

Dureté Vickers (HV1)

650

HV

Résistance à la flexion

105

MPa

Résistance à la compression

275

MPa

Module de Young

2.1 x 10¹¹

Pa (N/m²)

Résistance à la rupture

1.8

MPa-m^1/2

Propriété

Valeur

Unité

Coefficient de dilatation thermique

40℃ à 400℃

10.0 × 10-⁶

/°C

40℃ à 800℃

10.5 × 10-⁶

/°C

Conductivité thermique

42

W/m-K

Chaleur spécifique

0.92

J/g-°C

Rigidité diélectrique (résistance aux chocs thermiques)

17

kV/mm

Propriété

Valeur

Unité

Résistivité volumique

A 20°C

> 1014

Ω-cm

A 500°C

> 108

Ω-cm

Permittivité (constante diélectrique)@ 1 MHz

9.8

C²/(N-m²) ou (sans dimension)

Tangente de perte diélectrique@ 1 MHz

1 × 10-⁴

–

Usinage de la céramique d'oxyde de magnésium

Usinage de la céramique d'oxyde de magnésium

L'oxyde de magnésium peut être usiné à l'état vert ou en biscuit avant frittage et, dans une certaine mesure, à l'état entièrement fritté. À l'état pré-fritté, le matériau est relativement mou et plus facile à façonner, mais comme beaucoup d'autres matériaux, l'oxyde de magnésium peut être usiné à l'état vert ou bisque. céramique, L'oxyde de magnésium subit un retrait important - jusqu'à 20% - pendant le frittage, ce qui peut affecter les dimensions finales. L'oxyde de magnésium entièrement fritté est très dur et cassant, ce qui nécessite des outils diamantés et un équipement de précision pour tout usinage après frittage.

Méthodes d'usinage et considérations

  • Usinage vert ou bisque : Plus facile à découper et à former, convient aux formes complexes avant cuisson.
  • Rétrécissement par frittage : Il faut s'attendre à une réduction dimensionnelle d'environ 15-20% pendant le frittage, ce qui a un impact sur le contrôle des tolérances.
  • Usinage par post-frittage : Nécessite des outils de meulage au diamant en raison de la dureté et de la fragilité du matériau.
  • Fragilité : Le MgO entièrement fritté est susceptible de s'écailler et de se fracturer s'il n'est pas manipulé avec soin pendant l'usinage.
  • Outillage et temps : L'usinage des céramiques denses de MgO prend du temps et nécessite un équipement spécialisé.

Emballage en céramique d'oxyde de magnésium

Les produits céramiques à base d'oxyde de magnésium sont généralement emballés dans des sacs scellés sous vide pour éviter l'humidité ou la contamination et enveloppés de mousse pour amortir les vibrations et les chocs pendant le transport, ce qui garantit la qualité des produits dans leur état d'origine.

emballage de produits céramiques HM

Télécharger

  • Fiche technique de l'oxyde de magnésium_PDS
  • FICHE DE DONNÉES DE SÉCURITÉ (FDS) - Céramique d'oxyde de magnésium

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Nous vérifierons et reviendrons vers vous dans les 24 heures.

To customize your magnesium oxide sputtering target, please provide the following details:

  • Dimensions: Length, Width, Diameter, Thickness, etc.
  • Forme: Rectangular, round, or tube.
  • Tolérances: Spécifiez les tolérances requises.
  • La pureté of the sputtering target
  • Application: Indicate the intended application or industry.
  • Backing Plate: If bonding service is required, please specify the material and dimensions of the backing plate.
  • Quantité des produits dont vous avez besoin
  • Vous pouvez également fournir un dessin avec vos spécifications.

Une fois que nous aurons reçu ces informations, nous pourrons vous fournir un devis dans les 24 heures.

Nous avons en stock une grande variété de produits en céramique graphite et pour ceux-ci, il n'y a généralement pas de minimum de commande. Toutefois, pour les commandes personnalisées, nous fixons généralement une valeur minimale de $200. Le délai de livraison pour les articles en stock est généralement de 1 à 2 semaines, tandis que les commandes personnalisées prennent généralement 3 à 4 semaines, en fonction des spécificités de la commande.

A magnesium oxide sputtering target is used to deposit thin MgO films onto substrates for applications in optics, semiconductors, magnetic storage, and display technologies.

Yes, due to its insulating nature, magnesium oxide is commonly used with RF sputtering systems.

Advanced Ceramic Hub, établi en 2016 dans le Colorado, aux États-Unis, est un fournisseur spécialisé et un fabricant de produits à base de graphène. Avec une grande expertise dans l'approvisionnement et l'exportation, nous offrons des prix compétitifs et des solutions personnalisées adaptées à des exigences spécifiques, garantissant une qualité exceptionnelle et la satisfaction du client. En tant que fournisseur professionnel de céramiques, de métaux réfractaires, d'alliages spéciaux, de poudres sphériques et de divers matériaux avancés, nous répondons aux besoins de recherche, de développement et de production industrielle à grande échelle des secteurs scientifique et industriel.

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