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Spanish Lanthanhexaborid Sputtertarget
Lanthanhexaborid Sputtering Target Lanthanhexaborid Sputtering Target ist ein Hochleistungsmaterial, das für seine hervorragende Elektronenemission, niedrige Arbeitsfunktion,...
Yttriumoxid-stabilisiertes Zirkoniumdioxid-Sputtering-Target
Yttriumoxid-stabilisiertes Zirkoniumdioxid-Sputter-Target Yttriumoxid-stabilisiertes Zirkoniumdioxid-Sputter-Target ist ein haltbares keramisches Material, das für die präzise Dünnschichtabscheidung entwickelt wurde....
Magnesiumoxid-Sputtering-Target
Magnesiumoxid-Sputtering-Target Reinheit: 99,9% Magnesiumoxid-Sputtering-Target ist ein keramisches Material, das bei der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD)...
Siliziumkarbid-Sputtering-Target
Siliziumkarbid Sputtering Target Reinheit: 2N5-4N Form: Rechteckig, Scheibe, oder Rohr Siliziumkarbid Sputtering Target ist aus Siliziumkarbid (SiC) mit...
Borcarbid-Sputtering-Target
Borcarbid Sputtering Target Reinheit: 99.5% Form: Rechteckig, Scheibe, Rohr Borcarbid Sputtering Target (B₄C) ist ein Hochleistungsmaterial bekannt für seine...
Aluminiumnitrid-Sputtering-Target
Aluminiumnitrid Sputtering Target Reinheit: 99.5%-99.9% Aluminiumnitrid Sputtering Target ist aus hochreinem Aluminiumoxid mit einheitlicher Zusammensetzung und dichter...