Magnesiumoxid-Sputtering-Target

Magnesiumoxid-Sputtering-Target

Magnesiumoxid-Sputtering-Target Reinheit: 99,9% Magnesiumoxid-Sputtering-Target ist ein keramisches Material, das bei der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD)...

Siliziumkarbid-Sputtering-Target

Siliziumkarbid-Sputtering-Target

Siliziumkarbid Sputtering Target Reinheit: 2N5-4N Form: Rechteckig, Scheibe, oder Rohr Siliziumkarbid Sputtering Target ist aus Siliziumkarbid (SiC) mit...

Borcarbid-Sputtering-Target

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Borcarbid Sputtering Target Reinheit: 99.5% Form: Rechteckig, Scheibe, Rohr Borcarbid Sputtering Target (B₄C) ist ein Hochleistungsmaterial bekannt für seine...

Aluminiumnitrid-Sputtering-Target

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Aluminiumnitrid Sputtering Target Reinheit: 99.5%-99.9% Aluminiumnitrid Sputtering Target ist aus hochreinem Aluminiumoxid mit einheitlicher Zusammensetzung und dichter...