Sputtering Target

  • Lanthanhexaborid Sputtertarget

    Lanthanhexaborid Sputtering Target Lanthanhexaborid Sputtering Target ist ein Hochleistungsmaterial, das für seine hervorragende Elektronenemission, niedrige Arbeitsfunktion,...

  • Magnesiumoxid-Sputtering-Target

    Magnesiumoxid-Sputtering-Target Reinheit: 99,9% Magnesiumoxid-Sputtering-Target ist ein keramisches Material, das bei der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD)...

  • Siliziumkarbid-Sputtering-Target

    Siliziumkarbid Sputtering Target Reinheit: 2N5-4N Form: Rechteckig, Scheibe, oder Rohr Siliziumkarbid Sputtering Target ist aus Siliziumkarbid (SiC) mit...

  • Borcarbid-Sputtering-Target

    Borcarbid Sputtering Target Reinheit: 99.5% Form: Rechteckig, Scheibe, Rohr Borcarbid Sputtering Target (B₄C) ist ein Hochleistungsmaterial bekannt für seine...

  • Aluminiumnitrid-Sputtering-Target

    Aluminiumnitrid Sputtering Target Reinheit: 99.5%-99.9% Aluminiumnitrid Sputtering Target ist aus hochreinem Aluminiumoxid mit einheitlicher Zusammensetzung und dichter...