Siliziumkarbid-Sputtering-Target
Silicon Carbide Sputtering Target Purity: 2N5-4N Shape: Rectangular, Disc, or Tube Silicon Carbide Sputtering Target is made from silicon carbide (SiC) with…
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Borcarbid Sputtering Target Reinheit: 99.5% Form: Rechteckig, Scheibe, Rohr Borcarbid Sputtering Target (B₄C) ist ein Hochleistungsmaterial bekannt für seine...
Aluminiumnitrid Sputtering Target Reinheit: 99.5%-99.9% Aluminiumnitrid Sputtering Target ist aus hochreinem Aluminiumoxid mit einheitlicher Zusammensetzung und dichter...