Lanthanhexaborid Sputtertarget

Lanthanhexaborid Sputtertarget

Lanthanhexaborid Sputtertarget

  • Kundenspezifische Größen und Standardgrößen auf Lager
  • Schnelle Vorlaufzeit
  • Konkurrenzfähiger Preis
  • Lanthanhexaborid-Sputtertargets bieten eine zuverlässige Lösung für fortschrittliche Beschichtungsanwendungen, die Präzision, Stabilität und Effizienz erfordern. Dieses Targetmaterial ist für seine hervorragenden Elektronenemissionseigenschaften und seine Beständigkeit gegenüber hohen Temperaturen bekannt und unterstützt die Herstellung leitfähiger Schichten in anspruchsvollen Umgebungen wie Vakuumkammern und Halbleiterfertigungslinien. Seine chemi

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Datenblatt für Lanthanhexaborid-Sputtertargets

Farbe:

Lila

Chemische Formel:

LaB6

Dimension:

Standard oder individuell nach spezifischen Anforderungen

Reinheit:

99.9%

Die Form:

Scheibe/Rechteckig/Rohr

Bindung:

Bindung aufheben/Bindung

Lanthanhexaborid Sputtering Target Beschreibung

Lanthanhexaborid-Sputtertargets bieten eine zuverlässige Lösung für fortschrittliche Beschichtungsanwendungen, die Präzision, Stabilität und Effizienz erfordern. Dieses Targetmaterial ist für seine hervorragenden Elektronenemissionseigenschaften und seine Beständigkeit gegen hohe Temperaturen bekannt und unterstützt die Herstellung leitfähiger Schichten in anspruchsvollen Umgebungen wie Vakuumkammern und Halbleiterfertigungslinien. Seine chemische Beständigkeit gewährleistet eine gleichbleibende Sputterleistung bei minimaler Verunreinigung, so dass es sich für den Einsatz in wissenschaftlichen Instrumenten, Display-Technologien und Luft- und Raumfahrtkomponenten eignet.

Lanthanhexaborid Sputtertarget

Abmessungen des Lanthanhexaborid-Sputtertargets

Zirkulare Sputtering-TargetsDurchmesser1.0”
2.0”
3.0”
4.0”
5.0”
6.0”
bis zu 21”
Rechteckige Sputtering-TargetsBreite x Länge5” x 12”
5” x 15”
5” x 20”
5” x 22”
6” x 20”
Dicke0.125”, 0.25”

Chemische Zusammensetzungen von Lanthanhexaborid-Sputtertargets

LaB6 Reinheit: 99%, 99,9%, 99,9995%, B(% min.): 31%
Verunreinigungen durch Seltene ErdenNicht-RE-Verunreinigungen
Ce<120ppmFe<250ppm
Pr<150ppmSi<100ppm
Nd<180ppmCa<90ppm
Sm<112ppmC<300ppm
Y<250ppmMg<100ppm
Ti<100ppm

Lanthanhexaborid Sputtertarget Merkmale

  • Niedrige Arbeitsfunktion (~2,4 eV): Ermöglicht effiziente Elektronenemission, ideal für Beschichtungen von elektronischen und Vakuumgeräten.
  • Hohe thermische Stabilität: Behält seine Leistung auch bei hohen Temperaturen bei, geeignet für anspruchsvolle Sputtering-Umgebungen.
  • Ausgezeichnete Reinheit und Dichte: Gewährleistet eine gleichmäßige Schichtabscheidung mit minimaler Verunreinigung oder Defekten.
  • Hervorragende chemische Beständigkeit: Stabil gegen Oxidation und Korrosion unter kontrollierten Atmosphärenbedingungen.
  • Anpassbare Formen und Größen: Erhältlich in verschiedenen Abmessungen für unterschiedliche Sputtering-Systeme und Anforderungen.

Lanthanhexaborid Sputtering Target Anwendungen

  • Dünnschichtabscheidung: Wird in PVD-Verfahren für die Beschichtung von Halbleitern, Optiken und Anzeigetafeln verwendet.
  • Kathodenbeschichtungen: Verbessert die Leistung von Elektronenstrahlern in Elektronenmikroskopen und Ionenquellen.
  • Vakuum-Elektronik: Geeignet für hocheffiziente Emitterbeschichtungen in HF- und Mikrowellengeräten.
  • Oberflächentechnik: Wird in funktionellen Beschichtungen für Verschleißfestigkeit und elektrische Leitfähigkeit eingesetzt.
  • Luft- und Raumfahrt und Verteidigung: Unterstützt die Entwicklung fortschrittlicher Materialien für Hochtemperatur- und Hochvakuumsysteme.

Lanthanhexaborid Keramische Eigenschaften

EigentumTypischer Wert
Dichte~4,7 g/cm³
Härte (Vickers)~1600 HV
Elastizitätsmodul~300 GPa
Bruchzähigkeit~2,5 MPa-m^0,5
Biegefestigkeit~200 MPa
EigentumTypischer Wert
Schmelzpunkt~2528 °C
Wärmeleitfähigkeit~40 W/m-K
Wärmeausdehnungskoeffizient~4.4 × 10-⁶ /K
Spezifische Wärmekapazität~0,36 J/g-K
Maximale Betriebstemperatur~1700 °C
EigentumTypischer Wert
Elektrische Leitfähigkeit~1,0 × 10⁵ S/m
Elektrischer spezifischer Widerstand~10-⁵ bis 10-⁴ Ω-m
Arbeit Funktion~2,4 eV
Dielektrizitätskonstante (bei 1 MHz)~10-15
Stromdichte der Elektronenemission>10 A/cm² (bei 1700 K)

Lanthanhexaborid Keramisches Material Bearbeitung

Lanthanhexaborid Keramisches Material Bearbeitung

Lanthanhexaborid (LaB6) Keramik ist ein Spezialmaterial, das für seine hervorragende thermionische Emission, seinen hohen Schmelzpunkt und seine chemische Stabilität geschätzt wird. Diese Eigenschaften machen es für Elektronenemissionsanwendungen unentbehrlich, stellen aber aufgrund seiner Härte und Sprödigkeit auch eine Herausforderung bei der Bearbeitung dar. Zu den wichtigsten Aspekten der Bearbeitung gehören:

  • Schneiden: Diamantbeschichtete Präzisionswerkzeuge oder Laserschneidverfahren sind erforderlich, um saubere Kanten zu erzielen und gleichzeitig Mikrorisse und Oberflächenschäden zu vermeiden.
  • Schleifen: Feine Diamantschleifscheiben bieten die erforderliche Genauigkeit zur Einhaltung von Maßtoleranzen und Oberflächenglätte, insbesondere bei komplizierten oder kleinen Bauteilen.
  • Bohren: Ultraschall- oder abrasive Wasserstrahl-Bearbeitungstechniken werden häufig eingesetzt, um präzise Löcher und Merkmale zu erzeugen, ohne thermische Spannungen oder Risse zu verursachen.
  • Oberflächenveredelung: Polierverfahren verbessern die Oberflächenqualität, verringern die Elektronenstreuung und erhöhen die Emissionseffizienz, was für Hochleistungskathodenanwendungen entscheidend ist.

Lanthanhexaborid Sputtering Target Keramik Verpackung

Lanthanhexaborid-Keramikprodukte werden in der Regel in vakuumversiegelten Beuteln verpackt, um Feuchtigkeit oder Verunreinigungen zu vermeiden, und mit Schaumstoff umwickelt, um Erschütterungen und Stöße während des Transports abzufedern und die Qualität der Produkte in ihrem ursprünglichen Zustand zu gewährleisten.

Keramikprodukte Verpackung-HM

Angebot einholen

Wir werden das prüfen und uns innerhalb von 24 Stunden bei Ihnen melden.

Um Ihr Lanthanhexaborid-Sputtertarget individuell zu gestalten, geben Sie bitte die folgenden Details an:

  1. Abmessungen: Geben Sie den Durchmesser, die Länge, die Breite, die Dicke, etc. an.
  2. Formen: Rechteckig, rund, oder Rohr.
  3. Reinheit des Materials
  4. Anwendungen: Geben Sie den Verwendungszweck oder die Branche an.
  5. Gegenhalteplatte: Falls eine Verklebung erforderlich ist, geben Sie bitte das Material und die Abmessungen der Trägerplatte an.
  6. Menge der von Ihnen benötigten Produkte
  7. Alternativ können Sie auch eine Zeichnung mit Ihren Spezifikationen.

Sobald wir diese Angaben haben, können wir Ihnen innerhalb von 24 Stunden ein Angebot unterbreiten.

Wir haben eine Vielzahl von Lanthanhexaborid-Keramikprodukten auf Lager, für die im Allgemeinen keine Mindestbestellmenge erforderlich ist. Für kundenspezifische Aufträge setzen wir jedoch in der Regel einen Mindestbestellwert von $200 fest. Die Vorlaufzeit für Lagerartikel beträgt in der Regel 1-2 Wochen, während Sonderanfertigungen in der Regel 3-4 Wochen dauern, je nach den Besonderheiten des Auftrags.

Lanthanhexaborid-Sputtertarget bietet eine niedrige Austrittsarbeit, hervorragende Elektronenemission und hohe chemische Stabilität. Aufgrund dieser Eigenschaften eignet es sich besonders für Beschichtungen, die eine hohe Leistung bei extremen Temperaturen oder im Vakuum erfordern.

Lagern Sie es in einem trockenen, versiegelten Behälter, fern von Feuchtigkeit oder reaktiven Chemikalien. Lanthanhexaborid ist zwar stabil, aber die richtige Lagerung gewährleistet eine längere Haltbarkeit und gleichbleibende Sputterergebnisse.


Advanced Ceramic Hub, gegründet 2016 in Colorado, USA, ist ein spezialisierter Anbieter und Hersteller von Lanthanhexaborid-Keramikprodukten. Mit umfangreichem Fachwissen im Bereich Lieferung und Export bieten wir wettbewerbsfähige Preise und maßgeschneiderte Lösungen, die auf spezifische Anforderungen zugeschnitten sind und hervorragende Qualität und Kundenzufriedenheit gewährleisten. Als professioneller Anbieter von Keramik, hochschmelzenden Metallen, Speziallegierungen, kugelförmigen Pulvern und verschiedenen hochentwickelten Materialien bedienen wir die Bedürfnisse der Forschung, Entwicklung und großindustriellen Produktion in Wissenschaft und Industrie.

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