Sputtering Target

  • Magnesiumoxid-Sputtering-Target

    Reinheit: 99,9% Oder senden Sie uns eine E-Mail an sales@heegermaterials.com. Magnesiumoxid Sputtering Target Datenblatt Magnesiumoxid Sputtering Target Beschreibung Magnesiumoxid Sputtering Target ist...

  • Lanthanhexaborid Sputtertarget

    Oder senden Sie uns eine E-Mail an sales@heegermaterials.com. Lanthan Hexaborid Sputtering Target Datenblatt Lanthan Hexaborid Sputtering Target Beschreibung Lanthan Hexaborid Sputtering Target bietet...

  • Siliziumkarbid-Sputtering-Target

    Reinheit: 2N5-4NShape: Rechteckig, Scheibe oder Rohr Oder senden Sie uns eine E-Mail an sales@heegermaterials.com. Datenblatt Siliziumkarbid Sputtering Target Siliziumkarbid Sputtering Target Beschreibung...

  • Borcarbid-Sputtering-Target

    Reinheit: 99,5%Shape: Rechteckig, Scheibe, Rohr Oder senden Sie uns eine E-Mail an sales@heegermaterials.com. Borcarbid Sputtering Target Datenblatt Borcarbid Sputtering Target Borcarbid...

  • Aluminiumnitrid-Sputtering-Target

    Reinheit: 95%-99% Oder senden Sie uns eine E-Mail an sales@heegermaterials.com. Aluminiumnitrid Sputtering Target Datenblatt Aluminiumnitrid Sputtering Target Aluminiumnitrid (AlN) Sputtering Target...