Borcarbid-Sputtering-Target

Borcarbid-Sputtering-Target

Reinheit: 99,5%
Form: Rechteckig, Scheibe, Rohr

  • Kundenspezifische Größen und Standardgrößen auf Lager
  • Konkurrenzfähiger Preis
  • Schnelle Vorlaufzeit
  • Borcarbid Sputtering Target (B₄C) ist ein Hochleistungsmaterial, das für seine extreme Härte, chemische Inertheit und Beständigkeit gegen Verschleiß und hohe Temperaturen bekannt ist. Es wird häufig in Dünnschichtabscheidungsprozessen zur Herstellung von Schutzschichten, optischen Schichten und Halbleiterschichten verwendet. Das Target liefert eine gleichbleibende Sputterleistung und eignet sich daher ideal für Anwendungen, bei denen Langlebigkeit und Präzision in rauen Umgebungen gefragt sind. Wir können hochwertige Borcarbid-Sputtertargets mit verschiedenen Spezifikationen und zu wettbewerbsfähigen Preisen liefern und bieten maßgeschneiderte Lösungen für spezifische Anforderungen.

Oder senden Sie uns eine E-Mail an sales@heegermaterials.com.

Datenblatt für Borkarbid-Sputter-Targets

Referenz-Code:

HTST469

Reinheit:

99.5%

CAS:

12069-32-8

Erscheinung

Schwarz oder grau, kristalliner Feststoff

Chemische Formel:

B₄C

Molare Masse:

55,255 g/mol

Die Dichte:

2,52 g/cm³

Schmelzpunkt:

2.763 °C (5.005 °F; 3.036 K)

Siedepunkt:

3.500 °C (6.330 °F; 3.770 K)

Form:

Rechteckig, Scheibe, Rohr

Bürgschaftsservice

Unbonding oder Bonding

Borcarbid-Sputtering-Target

Borcarbid Sputtering Target Powder zeichnet sich durch hohe Reinheit und Dichte aus und bietet zuverlässige Leistung bei Dünnschichtanwendungen. Die feinen, partikelarmen Eigenschaften sorgen für eine gleichmäßige Schichtdickenverteilung und eine effiziente Materialausnutzung während des Sputterns. Dieses Pulver eignet sich gut für die Herstellung harter, chemisch resistenter Beschichtungen in modernen optischen und elektronischen Geräten.

Spezifikationen für Sputtertargets aus Borkarbid

Zirkulare Sputtering-Targets

Durchmesser

1.0”, 2.0”, 3.0”, 4.0”, 5.0”, 6.0” bis zu 21”

Rechteckige Sputtering-Targets

Breite x Länge

5” x 12”, 5” x 15”, 5” x 20”, 5” x 22”, 6” x 20”

Dicke

1.0”, 2.0”, 3.0”, 4.0”, 5.0”, 6.0” bis zu 21”

Borcarbid Sputtering Target Merkmale

  • Extreme Härte: Bietet eine hervorragende Verschleißfestigkeit für dauerhafte Dünnfilmbeschichtungen.
  • Hohe Reinheit: Gewährleistet eine gleichmäßige Sputterleistung und eine saubere Schichtabscheidung.
  • Thermische Stabilität: Funktioniert zuverlässig unter Hochtemperatur-Verarbeitungsbedingungen.
  • Chemische Trägheit: Geeignet für den Einsatz in korrosiven oder reaktiven Umgebungen.
  • Einheitliches Erosionsprofil: Unterstützt eine stabile und gleichmäßige Schichtdicke über die Zeit.

Borcarbid Sputtering Target Anwendungen

  • Abschirmung gegen nukleare Strahlung: Wird bei der Herstellung von dünnen Schichten für neutronenabsorbierende Barrieren in Kernreaktoren verwendet.
  • Beschichtungen für Steuerstäbe: Wird zur Herstellung von Oberflächenschichten in Steuerstäben verwendet, um die Neutronenabsorptionseffizienz zu erhöhen.
  • Shutdown Pellet Films: Wird in dünnen Schichten für Notabschaltsysteme in kerntechnischen Anlagen verwendet.
  • Optische Schutzschichten: Wird in der Optik verwendet, wo hohe Härte und Strahlungsbeständigkeit erforderlich sind.
  • Halbleiterkomponenten: Geeignet für die Herstellung harter, chemisch stabiler Schichten in der Halbleiterverarbeitung.

Materialeigenschaften von Borcarbid

Eigentum

Wert

Chemische Formel

B4C

Dichte

2,51 g/cm3

Farbe

Schwarz oder dunkelgrau

Kristallstruktur

Sechseckig

Wasserabsorption

ng %@R.T.

Härte

9,5 Mohs

Härte

ng-Noppe (kg/mm2)

Eigentum

Wert

Druckfestigkeit

2,9 MPa @ R.T.

Zugfestigkeit

155 MPa @ R.T.

Elastizitätsmodul

445 GPa

Biegefestigkeit (MOR)

375 MPa @ R.T.

Querkontraktionszahl, ν

0.19

Bruchzähigkeit, K_IC

ng MPa x m^(1/2)

Eigentum

Wert

Max. Verwendung Temperatur

2450 °C

Widerstandsfähigkeit gegen thermische Schocks

ng ΔT (°C)

Wärmeleitfähigkeit

28 W/m-K @ R.T.

Koeffizient der linearen Ausdehnung

5,54 μm/m-°C (~25°C bis ±1000°C)

Spezifische Wärme, Cp

945 cal/g-°C @ R.T.

Borcarbid-Werkstoffsorten

Reaktionsgebundenes Borcarbid (B4C) wird hauptsächlich als ballistische Panzerung verwendet und bietet einen ausgezeichneten Schutz bei geringerem Gewicht im Vergleich zu anderen Panzerungsmaterialien.

Eigenschaften

Einheiten

Reaktion Gebunden
Borkarbid

Biegefestigkeit, MOR (20 °C)

MPa

250

Bruchzähigkeit, KIc

MPa m1/2

3.0 - 4.0

Wärmeleitfähigkeit (20 °C)

W/m K

50

Wärmeausdehnungskoeffizient

1×10-6/°C

4.5

Maximale Einsatztemperatur

°C

1000

Durchschlagfestigkeit (6,35 mm)

ac-kV/mm

Dielektrischer Verlust (tan δ)

1MHz, 25 °C

Volumenwiderstand (25°C)

Ω-cm

10³

Reaktionsgebundene B4C Vorteile:

  • Hohe Festigkeit
  • Hohe Härte
  • Kostengünstig
  • Geeignet für großflächige Anwendungen

Heißgepresstes Borcarbid, auch bekannt als druckverdichtetes Borcarbid (PAD), ist eines der härtesten Materialien, die in kommerziellen Formen erhältlich sind. Diese außergewöhnliche Härte in Kombination mit der geringen Dichte wird in ballistischen Panzerungen verwendet, um den Schutz zu maximieren und gleichzeitig das Gewicht zu minimieren.

Eigenschaften

Einheiten

Heiß gepresst
Borkarbid

Biegefestigkeit, MOR (20 °C)

MPa

320 - 450

Bruchzähigkeit, KIc

MPa m1/2

3.0 - 4.0

Wärmeleitfähigkeit (20 °C)

W/m K

45 - 100

Wärmeausdehnungskoeffizient

1×10-6/°C

4.5 - 4.9

Maximale Einsatztemperatur

°C

2000

Durchschlagfestigkeit (6,35 mm)

ac-kV/mm

Dielektrischer Verlust (tan δ)

1MHz, 25 °C

Volumenwiderstand (25°C)

Ω-cm

100

Heißgepresstes B4C Vorteile:

  • Höhere Dichte
  • Bessere mechanische Eigenschaften
  • Ideal für hochfeste, hochtemperaturbeständige technische Materialien

Drucklos gesintertes Borcarbid verbindet hohe Reinheit mit den hervorragenden mechanischen Eigenschaften von Borcarbid für den Einsatz in ballistischen Panzerungen und in der Halbleiterfertigung.

Eigenschaften

Einheiten

Gesintert
Borkarbid

Biegefestigkeit, MOR (20 °C)

MPa

450

Bruchzähigkeit, KIc

MPa m1/2

3.0 - 5.0

Wärmeleitfähigkeit (20 °C)

W/m K

43 - 100

Wärmeausdehnungskoeffizient

1×10-6/°C

4.5 - 4.9

Maximale Einsatztemperatur

°C

Durchschlagfestigkeit (6,35 mm)

ac-kV/mm

Dielektrischer Verlust (tan δ)

1MHz, 25 °C

Volumenwiderstand (25°C)

Ω-cm

10

Drucklos gesintertes B4C Vorteile:

  • Hohe Härte
  • Ausgezeichnete Verschleißfestigkeit
  • Hohe chemische Stabilität
  • Geringe Dichte
  • Gute thermische Stabilität

Borcarbid-Keramik-Bearbeitung

Keramik-Bearbeitung HM

Die Bearbeitung von Borkarbid-Keramik ist ein anspruchsvolles Verfahren, mit dem diese ultraharte Keramik zu präzisen Komponenten für technische Anwendungen geformt wird. Aufgrund seiner außergewöhnlichen Härte und Sprödigkeit erfordert die Bearbeitung von Borkarbid spezielle Werkzeuge und eine sorgfältige Kontrolle, um Risse oder Oberflächenschäden zu vermeiden. Während sich das Material in seinem grünen oder biskuitartigen Zustand leichter formen lässt, erfordert das Erreichen enger Toleranzen häufig eine Bearbeitung nach dem Vollsintern, bei der diamantbasierte Techniken zum Einsatz kommen. Zu den gängigen Bearbeitungsmethoden gehören:

  • Diamantschneiden: Diamantbeschichtete Werkzeuge sind für das Schneiden von vollgesintertem Borcarbid unverzichtbar und ermöglichen eine genaue Formgebung und glatte Oberflächen.
  • Präzisionsschleifen: Wird verwendet, um feine Toleranzen und saubere Oberflächen zu erzielen. Dieser Prozess ist langsam und erfordert eine sorgfältige Handhabung, um Mikrorisse oder strukturelle Schäden zu vermeiden.
  • Ultraschall-Bearbeitung: Wendet Hochfrequenzvibrationen mit abrasivem Schlamm an, um Material schonend zu entfernen, geeignet für komplizierte und empfindliche Formen.
  • Laserschneiden: Eine berührungslose Technik, die für vorgesintertes Material oder dünne Abschnitte geeignet ist und saubere Kanten bei minimaler thermischer Belastung bietet.
  • Grüne Zerspanung: Wird vor dem Sintern durchgeführt und ermöglicht eine einfachere Formgebung komplexer Geometrien. Allerdings muss die Schrumpfung nach dem Sintern (~20%) bei den endgültigen Abmessungen berücksichtigt werden.

Borkarbid-Keramik-Verpackungen

Borcarbid-Keramikprodukte werden in der Regel in vakuumversiegelten Beuteln verpackt, um Feuchtigkeit oder Verunreinigungen zu vermeiden, und mit Schaumstoff umwickelt, um Erschütterungen und Stöße während des Transports abzufedern und die Qualität der Produkte in ihrem ursprünglichen Zustand zu gewährleisten.

Keramikprodukte Verpackung HM

Angebot einholen

Wir werden das prüfen und uns innerhalb von 24 Stunden bei Ihnen melden.

Um Ihr Borcarbid-Sputtering-Target zu individualisieren, geben Sie bitte die folgenden Details an:

  • Abmessungen: Länge, Breite, Durchmesser, Dicke, usw.
  • Form: Rechteckig, rund, oder Rohr.
  • Toleranzen: Geben Sie die erforderlichen Toleranzen an.
  • Reinheit des Sputtertargets
  • Anmeldung: Geben Sie den Verwendungszweck oder die Branche an.
  • Gegenhalteplatte: Falls eine Verklebung erforderlich ist, geben Sie bitte das Material und die Abmessungen der Trägerplatte an.
  • Menge der von Ihnen benötigten Produkte
  • Alternativ können Sie auch eine Zeichnung mit Ihren Spezifikationen.

Sobald wir diese Angaben haben, können wir Ihnen innerhalb von 24 Stunden ein Angebot unterbreiten.

Wir haben eine Vielzahl von Bornitridprodukten auf Lager, für die in der Regel keine Mindestbestellmenge erforderlich ist. Für kundenspezifische Aufträge setzen wir jedoch in der Regel einen Mindestbestellwert von $200 fest. Die Vorlaufzeit für Lagerartikel beträgt in der Regel 1-2 Wochen, während Sonderanfertigungen in der Regel 3-4 Wochen dauern, je nach den Besonderheiten des Auftrags.

Aufgrund seiner extremen Härte, seiner hohen chemischen Stabilität und seiner hervorragenden Neutronenabsorptionsfähigkeit ist es ideal für die Herstellung von schützenden, haltbaren und strahlungsbeständigen dünnen Schichten.

  • Kernenergie (Abschirmung und Kontrollkomponenten)
  • Verteidigung und Luft- und Raumfahrt (Strahlenschutzfolien)
  • Halbleiterherstellung (harte Beschichtungen)
  • Optoelektronik (abriebfeste Schichten)
  • Wissenschaftliche Forschung (Neutronenabsorptionsfilme)

Advanced Ceramic Hub wurde 2016 in Colorado, USA, gegründet und ist ein spezialisierter Anbieter und Hersteller von Graphenprodukten. Mit umfangreichem Fachwissen im Bereich Lieferung und Export bieten wir wettbewerbsfähige Preise und maßgeschneiderte Lösungen, die auf spezifische Anforderungen zugeschnitten sind und hervorragende Qualität und Kundenzufriedenheit gewährleisten. Als professioneller Anbieter von Keramik, hochschmelzenden Metallen, Speziallegierungen, kugelförmigen Pulvern und verschiedenen hochentwickelten Materialien bedienen wir die Bedürfnisse von Forschung, Entwicklung und großindustrieller Produktion in Wissenschaft und Industrie.

Borcarbid-Sputtering-Target

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