Yttriumoxid-stabilisiertes Zirkoniumdioxid-Sputtering-Target

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Schnelle Vorlaufzeit
Konkurrenzfähiger Preis

Yttrium-stabilized Zirconia (YSZ) Sputtering Target is a high-performance ceramic material used in thin film deposition. It consists of zirconium dioxide (ZrO2) stabilized with yttrium oxide (Y2O3), ensuring a stable cubic phase at room temperature. YSZ offers excellent ionic conductivity, thermal stability, and chemical resistance, making it a key material in solid oxide fuel cells, electrolyte m

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Yttria Stabilized Zirconia Sputtering Target Data Sheet

Farbe:	Weiß
Molecular Formula:	Y2O3/ZrO2
Die Dichte:	5,85-6,10 g/cm3
Reinheit:	99.9%, 99.95%, 99.99%, 99.995%, 99.999%
Schmelzpunkt:	2600°C

Yttria Stabilized Zirconia Sputtering Target Description

Yttrium-stabilized Zirconia (YSZ) Sputtering Target is a high-performance ceramic material used in thin film deposition. It consists of zirconium dioxide (ZrO2) stabilized with yttrium oxide (Y2O3), ensuring a stable cubic phase at room temperature. YSZ offers excellent ionic conductivity, thermal stability, and chemical resistance, making it a key material in solid oxide fuel cells, electrolyte membranes, oxygen sensors, and advanced protective coatings. Its uniform composition and high purity ensure reliable deposition results. In addition to sputtering targets, we also provide YSZ Crystal Substrate for various high-tech applications. Heeger Materials provides high-quality YSZ sputtering targets to meet diverse application requirements.

Yttria Stabilized Zirconia Sputtering Target Specifications

Reinheit	99.9%, 99.95%, 99.99%, 99.995%, 99.999%
Form	Discs, Plates, Column Targets, Step Targets, Custom-made
Molekulargewicht	347.69
Erscheinungsbild	White Target
Schmelzpunkt	>2600°C
Available Sizes	Diameter: 1.0″, 2.0″, 3.0″, 4.0″, 5.0″, 6.0″
Thickness: 0.125″, 0.250″

Yttria Stabilized Zirconia Sputtering Target Features

High Ionic Conductivity: Enables efficient charge transfer in fuel cells and electrochemical devices.
Ausgezeichnete thermische Stabilität: Maintains structural integrity under high sputtering temperatures.
Chemically Inert: Resists corrosion in reactive or oxidative environments during deposition.
Dense and Uniform Microstructure: Promotes consistent sputtering rates and smooth thin films.
Stable Cubic Phase: Yttria stabilization ensures phase stability across a wide temperature range.

Yttria Stabilized Zirconia Sputtering Target Applications

Festoxid-Brennstoffzellen (SOFCs): Used to deposit thin electrolyte or interlayer coatings.
Oxygen Sensors: Applied in gas sensor films due to their oxygen ion conductivity.
Optische Beschichtungen: Suitable for reflective and anti-reflective layers in high-temperature optics.
Semiconductor Devices: Provides insulation or buffer layers in microelectronic applications.
Schützende Beschichtungen: Ideal for wear-resistant, chemically stable films on metal or ceramic parts.

Hochtemperatursensoren
Festoxid-Brennstoffzellen (SOFCs)
Verarbeitung von Halbleitern
Optische Beschichtungen

Yttriumoxid-stabilisierte Zirkoniumdioxid-Keramik Eigenschaften

Eigentum	Typischer Wert
Dichte	5,85-6,10 g/cm³
Härte	~12-13 GPa (Vickers)
Biegefestigkeit	~900-1200 MPa
Druckfestigkeit	>2000 MPa
Bruchzähigkeit	~8-10 MPa-m¹/²
Elastischer Modul	~200-210 GPa
Querkontraktionszahl	~0.3

Eigentum	Typischer Wert
Wärmeleitfähigkeit (25 °C)	~2-3 W/m-K
Wärmeausdehnungskoeffizient	~10,5 × 10-⁶ /°C (Raumtemperatur - 1000 °C)
Maximale Betriebstemperatur	~1000-1200 °C (in oxidierender Atmosphäre)
Widerstandsfähigkeit gegen thermische Schocks	Mäßig bis hoch

Eigentum	Typischer Wert
Ionenleitfähigkeit (1000 °C)	~0,1 S/cm (O²- Ionenleiter)
Elektrischer Widerstand (Raumtemperatur)	>10¹² Ω-cm
Dielektrizitätskonstante	~25-30 (bei 1 MHz)
Dielektrische Festigkeit	~15-20 kV/mm

Yttriumoxid-stabilisierte Zirkoniumdioxid-Keramik-Bearbeitung

Yttriumoxidstabilisiertes Zirkoniumdioxid (YSZ) ist ein Hochleistungskeramikmaterial, das für seine außergewöhnliche Bruchzähigkeit, hohe Festigkeit und Ionenleitfähigkeit bekannt ist. Diese Eigenschaften machen es ideal für anspruchsvolle Umgebungen, obwohl seine Bearbeitung aufgrund seiner Härte und Sprödigkeit spezielle Verfahren erfordert. Zu den wichtigsten Aspekten der Bearbeitung gehören:

Schneiden: Diamantbeschichtete Werkzeuge oder Präzisionslaserschneiden werden eingesetzt, um die Integrität der Kanten zu erhalten und Mikrorisse zu minimieren.
Schleifen: Feinkörniges Diamantschleifen wird eingesetzt, um enge Toleranzen und glatte Oberflächen zu erzielen, insbesondere bei Bauteilen mit komplexer Geometrie.
Bohren: Die Ultraschallbearbeitung oder das Präzisionsdiamantbohren ermöglichen die präzise Herstellung von Mikrostrukturen für Sensor- und Brennstoffzellenanwendungen.
Oberflächenveredelung: Polieren verbessert die Verschleißfestigkeit, die Biokompatibilität und die thermische Stabilität, so dass es sich für fortschrittliche technische Anwendungen eignet.

Yttria Stabilized Zirconia Sputtering Target Ceramic Packaging

Yttriumoxid-stabilisierte Zirkoniumdioxid-Keramikprodukte werden in der Regel in vakuumversiegelten Beuteln verpackt, um Feuchtigkeit oder Verunreinigungen zu vermeiden, und mit Schaumstoff umwickelt, um Erschütterungen und Stöße während des Transports zu dämpfen und die Qualität der Produkte in ihrem ursprünglichen Zustand zu gewährleisten.

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Datenblatt Yttriumoxid-stabilisierte Zirkonoxid-Keramik_PDS

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To customize your yttria stabilized zirconia sputtering target, please provide the following details:

Abmessungen: Länge, Breite, Durchmesser, Dicke, usw.
Form: Rechteckig, rund, oder Rohr.
Toleranzen: Geben Sie die erforderlichen Toleranzen an.
Reinheit des Sputtertargets
Anmeldung: Geben Sie den Verwendungszweck oder die Branche an.
Gegenhalteplatte: Falls eine Verklebung erforderlich ist, geben Sie bitte das Material und die Abmessungen der Trägerplatte an.
Menge der von Ihnen benötigten Produkte
Alternativ können Sie auch eine Zeichnung mit Ihren Spezifikationen.

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Wir haben eine Vielzahl von yttriumoxidstabilisierten Zirkoniumdioxid-Keramikprodukten auf Lager, für die im Allgemeinen keine Mindestbestellmenge erforderlich ist. Für kundenspezifische Aufträge setzen wir jedoch in der Regel einen Mindestbestellwert von $200 fest. Die Vorlaufzeit für Lagerartikel beträgt in der Regel 1-2 Wochen, während Sonderanfertigungen in der Regel 3-4 Wochen dauern, je nach den Besonderheiten des Auftrags.

Yes, the yttria stabilized zirconia sputtering target is designed to maintain phase stability and mechanical strength even under prolonged high-temperature sputtering, which is crucial for advanced thermal barrier and fuel cell applications.

High-purity yttria stabilized zirconia sputtering targets (≥99.9%) help produce films with minimal defects and stable electrical or optical properties, which is essential for applications like sensors and microelectronics.

Advanced Ceramic Hub wurde 2016 in Colorado, USA, gegründet und ist ein spezialisierter Anbieter und Hersteller von Yttriumoxid-stabilisierten Zirkonoxid-Keramikprodukten. Mit umfangreichem Fachwissen im Bereich Lieferung und Export bieten wir wettbewerbsfähige Preise und maßgeschneiderte Lösungen, die auf spezifische Anforderungen zugeschnitten sind und hervorragende Qualität und Kundenzufriedenheit gewährleisten. Als professioneller Anbieter von Keramik, hochschmelzenden Metallen, Speziallegierungen, kugelförmigen Pulvern und verschiedenen hochentwickelten Materialien bedienen wir den Bedarf von Wissenschaft und Industrie in den Bereichen Forschung, Entwicklung und industrielle Großproduktion.

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