Elektrostatisches Aluminiumnitrid-Futter

Elektrostatisches Aluminiumnitrid-Futter HM

Elektrostatisches Aluminiumnitrid-Futter

  • Kundenspezifische Größen und Standardgrößen auf Lager
  • Konkurrenzfähiger Preis
  • Schnelle Vorlaufzeit
  • Der elektrostatische Aluminiumnitrid-Chuck besteht aus hochleistungsfähiger Aluminiumnitrid-Keramik mit außergewöhnlicher Wärmeleitfähigkeit, hoher mechanischer Festigkeit und ausgezeichneter Beständigkeit gegen Plasmaerosion. Es ist ideal für die Bearbeitung von Halbleiterwafern, die Abscheidung von Dünnschichten, das Ätzen usw. Als führender Anbieter und Hersteller von hochwertigen Aluminiumnitridprodukten können wir hochwertige elektrostatische Aluminiumnitridchucks (AlN ESCs) mit verschiedenen Spezifikationen und zu wettbewerbsfähigen Preisen liefern und kundenspezifische Lösungen für spezifische Anforderungen anbieten.

Oder senden Sie uns eine E-Mail an sales@heegermaterials.com.

Elektrostatisches Aluminiumnitrid-Futterblatt

Referenz-Code:

HM2085

Die Dichte:

3,3 g/cm3

Erscheinungsbild:

Gräuliches Weiß, Beige

Wärmeleitfähigkeit:

170-230 W/m-K

Elektrostatisches Aluminiumnitrid-Futter

Der elektrostatische Aluminiumnitrid-Chuck (AlN ESC) ist ein hochentwickeltes Bauteil, das zum sicheren Halten von Halbleiterwafern und -substraten während verschiedener hochpräziser Fertigungsprozesse entwickelt wurde. Es bietet eine hervorragende Wärmeleitfähigkeit, hohe mechanische Festigkeit und Widerstandsfähigkeit gegen Plasmaerosion. Ihre elektrostatische Spannfunktion gewährleistet ein zuverlässiges Einspannen der Wafer ohne physischen Kontakt, wodurch das Kontaminationsrisiko verringert und die Prozesseffizienz verbessert wird. Sie werden hauptsächlich bei der Bearbeitung von Halbleiterwafern, bei der Dünnschichtabscheidung und beim Ätzen eingesetzt. Fortgeschrittene Keramik Hub kann maßgeschneiderte Lösungen in verschiedenen Spezifikationen für die unterschiedlichsten Anwendungen in Industrie und Forschung anbieten.

Elektrostatische Aluminiumnitrid-Spannfutter Anwendungen

  • Halbleiterherstellung: Elektrostatische Spannvorrichtungen aus Aluminiumnitrid (AlN ESCs) werden häufig bei der Bearbeitung von Halbleiterwafern eingesetzt, insbesondere beim Ätzen und bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD). Die hohe Wärmeleitfähigkeit von AlN trägt zur Aufrechterhaltung der Temperaturstabilität bei, während die elektrostatische Spannvorrichtung gewährleistet, dass der Wafer ohne mechanischen Kontakt sicher gehalten wird.
  • Dünnschichtabscheidung: Bei der Abscheidung von Dünnschichten, z. B. durch Sputtern oder Aufdampfen, werden AlN-ESCs zur Stabilisierung des Substrats und zur Kontrolle seiner Temperatur eingesetzt. Die elektrostatische Aufspannung trägt dazu bei, eine gleichmäßige Abscheidung zu gewährleisten, was zu hochwertigen Dünnschichten führt.
  • Feinmechanische Bearbeitung: AlN ESCs werden in der Präzisionsbearbeitung und Mikroelektronik eingesetzt, wo ein hohes Maß an Kontrolle über die Position und Temperatur des Substrats erforderlich ist.
  • Plasma-Ätzen: Während des Plasmaätzens werden AlN ESCs verwendet, um Substrate zu fixieren und gleichzeitig eine effiziente Wärmeableitung zu gewährleisten. Dies verbessert die Qualität der Ätzung und schützt das Substrat vor Schäden.
  • Herstellung von LEDs und Solarzellen: AlN-ESCs werden bei der Herstellung von Leuchtdioden (LEDs) und Solarzellen verwendet, bei denen eine präzise Temperaturkontrolle für die Optimierung der Qualität und Leistung dieser Bauteile entscheidend ist.

Materialeigenschaften von Siliziumnitrid

Eigentum

Einheit

HMAN1000

HMAN2000

HMAN3000

HMAN4000

HMAN1000S

Dichte

g/cm3

3.32

3.32

3.32

3.30

3.30

Elastizitätsmodul

GPa

 300-350

300-350

300-350

300-350

350

Bruchzähigkeit KIC

MPa m1/2

3

3

3

2.5

3

Querkontraktionszahl

 0.22

0.22

0.22

0.22

0.22

Druckfestigkeit

MPa

3000

3000

3000

3000

3000

Biegefestigkeit @ 25°C

MPa

350

350

350

350

350

Härte

GPa

10

10

10

12

11

Eigentum

Einheit

HMAN1000

HMAN2000

HMAN3000

HMAN4000

HMAN1000S

Wärmeleitfähigkeit @ 25°C

W/mK

170

200

230

200

170

CTE 25°C ➞ 400°C

10-6/K

4.5

4.5

4.5

3.5

4.6

Maximale Temperatur (Luft)

°C

1200

1200

1200

1200

1200

Maximale Temperatur (inert)

°C

1200

1200

1200

1200

1200

Eigentum

Einheit

HMAN1000

HMAN2000

HMAN3000

HMAN4000

HMAN1000S

Dielektrizitätskonstante

1 MHz

8.8

8.8

8.5

8.5

8.8

Dielektrischer Verlust

1 MHz

5×10-4

5×10-4

5×10-4

5×10-4

5×10-4

Durchschlagfestigkeit DC @ 25°C

kV/mm

15

15

15

15

14

Volumenwiderstand @ 25°C

ohm-cm

 >1013

>1013

>1013

 >1014

 >1014

Siliziumnitrid-Sorten

HMAN1000 ist unser Standardmaterial aus hochreinem Aluminiumnitrid mit einer Wärmeleitfähigkeit von 170 W/mK. Es hat die gleiche Wärmeleitfähigkeit wie unser Trägermaterial, bietet aber die Möglichkeit, größere Stücke in Länge/Breite und in Dicken bis zu 30 mm herzustellen.
HMAN1000 hat einen guten Wärmeausdehnungskoeffizienten, der über weite Temperaturbereiche mit dem von Silizium und Galliumnitrid vergleichbar ist.

HMAN100 Anwendungen:

  • Hochleistungs-Isolatoren
  • Laser-Komponenten
  • Wassergekühlte Kühlkörper
  • Leistungselektronik
  • Komponenten für Luft- und Raumfahrt, Medizintechnik und Halbleiter

HMAN1000S 170 W/mK ist unser Standard-Substratmaterial mit hoher Wärmeleitfähigkeit. Es sind jedoch auch andere Hochleistungsqualitäten erhältlich.

HMAN1000S Anwendungen:

  • Wärmesenken
  • Wärmespreizer
  • Laser-Kühlkörper Leistungsgleichrichter
  • Luft- und Raumfahrt, Leistungselektronik, Gleichrichter

HMAN2000 ist eine unserer verbesserten Aluminiumnitridqualitäten, die alle mechanischen Eigenschaften von HMAN1000 mit dem zusätzlichen Vorteil einer Wärmeleitfähigkeit von 200 W/mK bietet.

HMAN2000-Anwendungen:

  • Wärmesenken
  • Wärmespreizer
  • Laser-Kühlkörper Leistungsgleichrichter
  • Luft- und Raumfahrt, Leistungselektronik, Gleichrichter

HMAN3000 ist eine unserer verbesserten Aluminiumnitridqualitäten, die alle mechanischen Eigenschaften von HMAN1000 mit dem zusätzlichen Vorteil einer Wärmeleitfähigkeit von 230 W/mK bietet.

HMAN3000 Anwendungen:

  • Wärmesenken
  • Wärmespreizer
  • Laser-Kühlkörper Leistungsgleichrichter
  • Luft- und Raumfahrt, Leistungselektronik, Gleichrichter

HMAN4000 ist eine unserer verbesserten Aluminiumnitridqualitäten, die alle mechanischen Eigenschaften von HMAN1000 mit dem zusätzlichen Vorteil einer Wärmeleitfähigkeit von 200 W/mK bietet.

HMAN4000 Anwendungen:

  • Wärmesenken
  • Wärmespreizer
  • Laser-Kühlkörper Leistungsgleichrichter
  • Luft- und Raumfahrt, Leistungselektronik, Gleichrichter

Siliziumnitrid-Keramik-Bearbeitung

Keramik-Bearbeitung HM

Die Keramikbearbeitung von Aluminiumnitrid (AlN) ist ein präzises Verfahren zur Herstellung von Hochleistungskomponenten aus Aluminiumnitridwerkstoffen. Die Bearbeitung von Aluminiumnitridkeramik erfordert spezielle Geräte und Techniken, um die Sprödigkeit und Härte des Materials zu bewältigen. Geeignete Werkzeuge und kontrollierte Umgebungen sind unerlässlich, um Materialschäden zu vermeiden und die gewünschte Oberflächengüte und Maßgenauigkeit zu erreichen. Die üblichen Bearbeitungsmethoden sind folgende:

  • Diamantschneiden: Diamantwerkzeuge werden zur Erzielung feiner Präzision und glatter Oberflächen verwendet und sind ideal für komplexe Formen.
  • Laserschneiden: Ein berührungsloses Verfahren für komplizierte Formen, mit hoher Präzision und minimaler thermischer Belastung.
  • Präzisionsschleifen: Wird verwendet, um feine Toleranzen und Oberflächengüten zu erzielen. Erfordert besondere Sorgfalt, um aufgrund der Sprödigkeit der Keramik Risse oder Abplatzungen zu vermeiden.
  • Drahterodieren (Electrical Discharge Machining): Ein Verfahren, das häufig für komplizierte Schnitte verwendet wird, insbesondere für dünne und komplexe Geometrien.

Aluminiumnitrid-Keramik-Verpackungen

Aluminiumnitrid-Keramikprodukte werden in der Regel in vakuumversiegelten Beuteln verpackt, um Feuchtigkeit oder Verunreinigungen zu vermeiden, und mit Schaumstoff umwickelt, um Erschütterungen und Stöße während des Transports zu dämpfen und die Qualität der Produkte in ihrem ursprünglichen Zustand zu gewährleisten.

Keramikprodukte Verpackung HM

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Wir werden das prüfen und uns innerhalb von 24 Stunden bei Ihnen melden.

Um Ihre Quarz-Keramik-Rollen zu individualisieren, geben Sie bitte die folgenden Details an Um Ihr Aluminiumnitrid-Elektrostatik-Futter zu individualisieren, geben Sie bitte die folgenden Details an:

  1. Abmessungen: Geben Sie die gewünschten Parameter an (z.B. Länge, Breite, Durchmesser, Dicke, etc.)
  2. Form: Rechteckig, quadratisch, rund, etc.
  3. Toleranzen: Geben Sie die erforderlichen Toleranzen an.
  4. Reinheit des Materials
  5. Thermisches Management: Geben Sie die maximale Betriebstemperatur, die gewünschte Wärmeleitfähigkeit, etc. an.
  6. Elektrodenkonstruktion: Geben Sie den Typ der Elektrodenstruktur, das Material, die Konfiguration usw. an.
  7. Art des Substrats: Die Art des Wafer- oder Substratmaterials (z. B. Silizium, Glas, Keramik usw.), das der Chuck bearbeiten soll.
  8. Anmeldung: Geben Sie den Verwendungszweck oder die Branche an.
  9. Menge der von Ihnen benötigten Produkte
  10. Alternativ können Sie auch eine Zeichnung mit Ihren Spezifikationen.

Sobald wir diese Angaben haben, können wir Ihnen innerhalb von 24 Stunden ein Angebot unterbreiten.

Wir haben eine Vielzahl von Bornitridprodukten auf Lager, für die in der Regel keine Mindestbestellmenge erforderlich ist. Für kundenspezifische Aufträge setzen wir jedoch in der Regel einen Mindestbestellwert von $200 fest. Die Vorlaufzeit für Lagerartikel beträgt in der Regel 1-2 Wochen, während Sonderanfertigungen in der Regel 3-4 Wochen dauern, je nach den Besonderheiten des Auftrags.

Die elektrostatische Spannvorrichtung aus Aluminiumnitrid wird verwendet, um Wafer bei der Halbleiterverarbeitung durch elektrostatische Kraft sicher zu halten, und bietet eine hohe Wärmeleitfähigkeit und Isolierung.

Aluminiumnitrid bietet eine einzigartige Kombination aus hoher Wärmeleitfähigkeit, elektrischer Isolierung und Verschleißfestigkeit, ideal für anspruchsvolle Anwendungen.

Advanced Ceramic Hub wurde 2016 in Colorado, USA, gegründet und ist ein spezialisierter Anbieter und Hersteller von Graphenprodukten. Mit umfangreichem Fachwissen im Bereich Lieferung und Export bieten wir wettbewerbsfähige Preise und maßgeschneiderte Lösungen, die auf spezifische Anforderungen zugeschnitten sind und hervorragende Qualität und Kundenzufriedenheit gewährleisten. Als professioneller Anbieter von Keramik, hochschmelzenden Metallen, Speziallegierungen, kugelförmigen Pulvern und verschiedenen hochentwickelten Materialien bedienen wir die Bedürfnisse von Forschung, Entwicklung und großindustrieller Produktion in Wissenschaft und Industrie.

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