Cátodos para sputtering de óxido de circonio estabilizado con itria

Cátodos para sputtering de óxido de circonio estabilizado con itria

Cátodos para sputtering de óxido de circonio estabilizado con itria

  • Tamaños personalizados y estándar en stock
  • Plazo de entrega rápido
  • Precio competitivo

  • Yttrium-stabilized Zirconia (YSZ) Sputtering Target is a high-performance ceramic material used in thin film deposition. It consists of zirconium dioxide (ZrO2) stabilized with yttrium oxide (Y2O3), ensuring a stable cubic phase at room temperature. YSZ offers excellent ionic conductivity, thermal stability, and chemical resistance, making it a key material in solid oxide fuel cells, electrolyte m
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Yttria Stabilized Zirconia Sputtering Target Data Sheet

Color:

Blanco

Molecular Formula:

Y2O3/ZrO2

Densidad:

5,85-6,10 g/cm3

Pureza:

99.9%, 99.95%, 99.99%, 99.995%, 99.999%

Punto de fusión:

2600°C

Yttria Stabilized Zirconia Sputtering Target Description

Yttrium-stabilized Zirconia (YSZ) Sputtering Target is a high-performance ceramic material used in thin film deposition. It consists of zirconium dioxide (ZrO2) stabilized with yttrium oxide (Y2O3), ensuring a stable cubic phase at room temperature. YSZ offers excellent ionic conductivity, thermal stability, and chemical resistance, making it a key material in solid oxide fuel cells, electrolyte membranes, oxygen sensors, and advanced protective coatings. Its uniform composition and high purity ensure reliable deposition results. In addition to sputtering targets, we also provide YSZ Crystal Substrate for various high-tech applications. Heeger Materials provides high-quality YSZ sputtering targets to meet diverse application requirements.

Cátodos para sputtering de óxido de circonio estabilizado con itria

Yttria Stabilized Zirconia Sputtering Target Specifications

Pureza99.9%, 99.95%, 99.99%, 99.995%, 99.999%
FormaDiscs, Plates, Column Targets, Step Targets, Custom-made
Molecular Weight347.69
AparienciaWhite Target
Punto de fusión>2600°C
Available SizesDiameter: 1.0″, 2.0″, 3.0″, 4.0″, 5.0″, 6.0″
Thickness: 0.125″, 0.250″

Yttria Stabilized Zirconia Sputtering Target Features

  • High Ionic Conductivity: Enables efficient charge transfer in fuel cells and electrochemical devices.
  • Excelente estabilidad térmica: Maintains structural integrity under high sputtering temperatures.
  • Chemically Inert: Resists corrosion in reactive or oxidative environments during deposition.
  • Dense and Uniform Microstructure: Promotes consistent sputtering rates and smooth thin films.
  • Stable Cubic Phase: Yttria stabilization ensures phase stability across a wide temperature range.

Yttria Stabilized Zirconia Sputtering Target Applications

  • Pilas de combustible de óxido sólido (SOFC): Used to deposit thin electrolyte or interlayer coatings.
  • Oxygen Sensors: Applied in gas sensor films due to their oxygen ion conductivity.
  • Optical Coatings: Suitable for reflective and anti-reflective layers in high-temperature optics.
  • Semiconductor Devices: Provides insulation or buffer layers in microelectronic applications.
  • Revestimientos protectores: Ideal for wear-resistant, chemically stable films on metal or ceramic parts.
  • Sensores de alta temperatura
    Sensores de alta temperatura
  • Pilas de combustible de óxido sólido (SOFC)
    Pilas de combustible de óxido sólido (SOFC)
  • Procesado de semiconductores
    Procesado de semiconductores
  • Optical Coatings
    Optical Coatings

Propiedades de la cerámica de óxido de circonio estabilizado con itria

PropiedadValor típico
Densidad5,85-6,10 g/cm³
Dureza~12-13 GPa (Vickers)
Resistencia a la flexión~900-1200 MPa
Resistencia a la compresión>2000 MPa
Resistencia a la fractura~8-10 MPa-m¹/²
Módulo elástico~200-210 GPa
Relación de Poisson~0.3
PropiedadValor típico
Conductividad térmica (25 °C)~2-3 W/m-K
Coeficiente de dilatación térmica~10,5 × 10-⁶ /°C (temperatura ambiente - 1000 °C)
Temperatura máxima de funcionamiento~1000-1200 °C (en atmósfera oxidante)
Resistencia al choque térmicoModerado a alto
PropiedadValor típico
Conductividad iónica (1000 °C)~0,1 S/cm (conductor de iones O²)
Resistividad eléctrica (temperatura ambiente)>10¹² Ω-cm
Constante dieléctrica~25-30 (a 1 MHz)
Rigidez dieléctrica~15-20 kV/mm

Mecanizado de material cerámico de circonio estabilizado con itria

Mecanizado de material cerámico de circonio estabilizado con itria

La zirconia estabilizada con itria (YSZ) es un material cerámico de alto rendimiento conocido por su excepcional tenacidad a la fractura, alta resistencia y conductividad iónica. Estas características lo hacen ideal para entornos exigentes, aunque su mecanizado requiere enfoques especializados debido a su dureza y fragilidad. Entre los aspectos clave del mecanizado se incluyen:

  • Corte: Se emplean herramientas con recubrimiento de diamante o corte láser de precisión para mantener la integridad de los bordes y minimizar las microfisuras.
  • Rectificado: El rectificado con diamante de grano fino se utiliza para conseguir tolerancias estrechas y superficies lisas, especialmente en componentes con geometrías complejas.
  • Perforación: El mecanizado por ultrasonidos o el taladrado de precisión con diamante permiten la formación precisa de microcaracteres para aplicaciones de sensores y pilas de combustible.
  • Acabado de superficies: El pulido mejora la resistencia al desgaste, la biocompatibilidad y la estabilidad térmica, por lo que resulta adecuado para usos de ingeniería avanzada.

Yttria Stabilized Zirconia Sputtering Target Ceramic Packaging

Los productos cerámicos de óxido de circonio estabilizado con itria suelen envasarse en bolsas selladas al vacío para evitar la humedad o la contaminación y se envuelven con espuma para amortiguar las vibraciones y los impactos durante el transporte, lo que garantiza la calidad de los productos en su estado original.

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To customize your yttria stabilized zirconia sputtering target, please provide the following details:

  1. Dimensiones: Longitud, Anchura, Diámetro, Espesor, etc.
  2. Forma: Rectangular, redondo o tubo.
  3. Tolerancias: Especifique las tolerancias requeridas.
  4. Pureza del cátodo para sputtering
  5. Aplicación: Indique la aplicación o el sector previstos.
  6. Placa de apoyo: Si se requiere un servicio de pegado, especifique el material y las dimensiones de la placa de apoyo.
  7. Cantidad de los productos que necesita
  8. Alternativamente, puede proporcionar un dibujo con sus especificaciones.

Una vez que tengamos estos datos, podremos facilitarle un presupuesto en 24 horas.

Disponemos en stock de una amplia variedad de productos cerámicos de óxido de circonio estabilizado con itria, para los que no suele ser necesario un pedido mínimo. Sin embargo, para los pedidos personalizados, solemos fijar un valor mínimo de pedido de $200. El plazo de entrega de los artículos en stock suele ser de 1 a 2 semanas, mientras que el de los pedidos personalizados suele ser de 3 a 4 semanas, dependiendo de las características específicas del pedido.

Yes, the yttria stabilized zirconia sputtering target is designed to maintain phase stability and mechanical strength even under prolonged high-temperature sputtering, which is crucial for advanced thermal barrier and fuel cell applications.

High-purity yttria stabilized zirconia sputtering targets (≥99.9%) help produce films with minimal defects and stable electrical or optical properties, which is essential for applications like sensors and microelectronics.


Advanced Ceramic Hub, fundada en 2016 en Colorado (Estados Unidos), es un proveedor y fabricante especializado en productos cerámicos de circonio estabilizado con itria. Con una amplia experiencia en suministro y exportación, ofrecemos precios competitivos y soluciones personalizadas adaptadas a requisitos específicos, garantizando una calidad excepcional y la satisfacción del cliente. Como proveedor profesional de cerámicas, metales refractarios, aleaciones especiales, polvos esféricos y diversos materiales avanzados, atendemos las necesidades de investigación, desarrollo y producción industrial a gran escala de los sectores científico e industrial.

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