Siliziumkarbid Platte/Blech/Scheibe

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Siliziumkarbid Platte/Blech/Scheibe

Purity: 97% – 99%

  • Kundenspezifische Größen und Standardgrößen auf Lager
  • Konkurrenzfähiger Preis
  • Schnelle Vorlaufzeit
  • Silicon Carbide Plate/Sheet/Disc is an advanced ceramic material with exceptional hardness, thermal stability, and chemical resistance. It is widely used in semiconductor manufacturing, ballistic armor, high-temperature furnace components, aerospace, mechanical seals, and precision optics. As a leading supplier and manufacturer of premium silicon carbide products, we can supply high-quality silicon carbide plates, sheets, and discs with various specifications and competitive prices, offering customized solutions to meet specific requirements.

Oder senden Sie uns eine E-Mail an sales@heegermaterials.com.

Silicon Carbide Plate/Sheet/Disc Data Sheet

Referenz-Code:

HM2577

Reinheit:

97% – 99%

Farbe:

Schwarz oder Dunkelgrau

Chemische Formel:

SiC

Werkstoffklassen:

Reaktionsgebundenes SiC, drucklos gesintertes SiC, heißgepresstes SiC, usw.

Die Dichte:

>3,2 g/cm³

Maximale Betriebstemperatur:

1500°C

Wärmeleitfähigkeit:

120 W/m·K

Silicon Carbide Plate/Sheet/Disc Description

Silicon Carbide Plate/Sheet/Disc has superior wear resistance, high thermal conductivity, and lightweight properties, making it an ideal choice under extreme conditions. It is widely used in semiconductor manufacturing, ballistic armor, high-temperature furnace components, aerospace, etc. Advanced Keramik Hub can supply high-precision silicon carbide plates/sheets/discs with customized solutions to meet diverse industry and research applications.

Silicon Carbide Plate/Sheet/Disc Specifications

Artikel

Specifications/Options

Größe

300x300x10mm, 400x400x15mm, 500x500x20mm, or customized.

Form

Square, Round, Rectangular, etc.

Thickness Options

Ultra-thin (e.g., less than 5mm), Standard thickness (5-20mm), Thick plates (above 20mm)

Hole Type

Solid plates, Round hole plates, Square hole plates, Mesh plates, etc.

Edge Design

Straight edge plates, Chamfered edge plates, Rounded edge plates, etc.

Surface Features

Smooth flat plates, Textured surface, Anti-slip surface

Silicon Carbide Plate/Sheet/Disc Features

  • Hohe Temperaturbeständigkeit
  • Exceptional hardness and wear resistance
  • Outstanding thermal conductivity and shock resistance
  • Chemical inertness in corrosive environments
  • Geringe thermische Ausdehnung
  • Leichtgewicht

Silicon Carbide Plate/Sheet/Disc Manufacturing Process

  • Vorbereitung des Rohmaterials: Blend high-purity SiC powder with additives (e.g., carbon, boron).
  • Forming: Shape into plates/sheets/discs via dry pressing, slip casting, or isostatic pressing.
  • Green Machining (Optional): Machine the green body for near-final shape.
  • Sintering: Heat at 1,800–2,200°C using pressureless sintering, hot pressing, or reaction bonding
  • .Post-Sintering Machining: Grind/polish with diamond tools for precise dimensions.
  • Oberflächenbehandlung (Optional): Polish or apply coatings for specific applications.
  • Quality Control: Inspect dimensions, hardness, density, and defects.

Silicon Carbide Plate/Sheet/Disc Applications

  • Herstellung von Halbleitern: Used as wafer carriers, substrates, or components in semiconductor processing equipment due to high thermal conductivity and resistance to harsh chemical environments.
  • Armor and Ballistic Protection: Employed in body armor, vehicle armor, and bulletproof vests for their lightweight and high strength.
  • High-Temperature Components: Utilized in kiln furniture, furnace linings, and heat exchangers due to excellent thermal shock resistance and stability at high temperatures.
  • Aerospace and Defense: Applied in turbine blades, nozzles, and structural components for their durability and lightweight properties.
  • Mechanical Seals and Bearings: Used in pumps and rotating equipment for their wear resistance and low friction.
  • Optics and Mirrors: Employed in precision optics and laser mirrors due to their high stiffness and polishability.
  • Cutting Tools and Abrasives: Incorporated in grinding wheels, cutting discs, and abrasive tools for their extreme hardness.
  • Energy Applications: Used in solar panel production and as components in nuclear reactors for their radiation resistance.

Materialeigenschaften von Siliziumkarbid

Eigentum

Einheiten

SiC

Dichte

g/cm3

3.1

Härte

GPa

28

Biegefestigkeit @ 25°C

MPa

410

Querkontraktionszahl

0.14

Bruchzähigkeit KIc

MPa m1/2

4.60

Eigentum

Einheiten

SiC

Wärmeleitfähigkeit @ 25°C

W/mK

102.6

CTE1 @ 25°C ➞ 400°C

10-6/K

4.02

Maximale Temperatur (inert) 2

°C

1900

Eigentum

Einheiten

SiC

Volumenwiderstand @ 25°C

ohm-cm

102-1011

Volumenwiderstand @ 1000°C

ohm-cm

0.01 - 0.2

Siliziumkarbid-Sorten

Reaktionsgebundenes Siliciumcarbid (RBSiC) wird durch Mischen von SiC, Kohlenstoff und Bindemittel und anschließendes Infiltrieren mit Silicium bei hoher Temperatur hergestellt. Durch das Dampfphasenverfahren wird das freie Silizium auf unter 10% reduziert, was die Leistung verbessert. Das Ergebnis ist ein Silizium-Siliziumkarbid-Verbundwerkstoff (SiSiC), nicht reines SiC.

SiC-Pulver + C-Pulver + Bindemittel gemischt → Formgebung → Trocknung → Schutzatmosphäre zur Entgasung → Hochtemperatur-Siliziuminfiltration → Nachbearbeitung.

Reaktionsgebundenes SiC Vorteile:

  • Niedrige Sintertemperatur
  • Niedrige Produktionskosten
  • Hohe Materialverdichtung
  • Das Gerüst aus Kohlenstoff und Siliziumkarbid kann in jede beliebige Form vorbearbeitet werden
  • Die Schrumpfung während des Sinterns liegt innerhalb von 3%, was die Kontrolle der Abmessungen erleichtert.
  • Deutliche Verringerung des Nachbearbeitungsbedarfs, ideal für große, komplexe Bauteile

Reaktionsgebundenes SiC Nachteile:

  • Restliches freies Silizium im Sinterkörper nach der Bearbeitung
  • Geringere Festigkeit im Vergleich zu Produkten aus anderen Verfahren
  • Geringere Verschleißfestigkeit
  • Freies Silizium ist nicht korrosionsbeständig gegenüber alkalischen Substanzen und starken Säuren (z. B. Flusssäure)
  • Eingeschränkte Nutzung aufgrund von Korrosionsanfälligkeit
  • Die Hochtemperaturfestigkeit wird durch freies Silizium beeinträchtigt
  • Die typische Einsatztemperatur ist auf unter 1350-1400°C begrenzt.

Drucklos gesintertes Siliciumcarbid bezeichnet das Verdichtungssintern von Proben unterschiedlicher Form und Größe bei 2000-2150°C ohne Anwendung von äußerem Druck und unter Verwendung einer Inertgasatmosphäre durch Zugabe geeigneter Sinteradditive. Der Sinterprozess kann in Festphasensintern (SSiC) und Flüssigphasensintern (LSiC) unterteilt werden.

Eigenschaften von festphasig gesintertem SiC (SSiC):

  • Hohe Sintertemperatur: Erfordert eine hohe Sintertemperatur (>2000°C).
  • Hohe Reinheitsanforderung: Die Rohstoffe müssen von hoher Reinheit sein.
  • Niedrige Bruchzähigkeit: Der gesinterte Körper hat eine geringere Bruchzähigkeit und neigt zu transgranularem Bruch.
  • Saubere Korngrenzen: Es gibt praktisch keine flüssige Phase, und die Korngrenzen sind relativ “sauber”.”
  • Stabile Hochtemperaturfestigkeit: Die Hochtemperaturfestigkeit bleibt bis zu 1600°C ohne wesentliche Veränderungen stabil.
  • Wachstum des Getreides: Bei hohen Temperaturen ist das Kornwachstum leicht, was zu einer schlechten Korngleichmäßigkeit führt.
  • Hohe Rissempfindlichkeit: Das Material ist sehr empfindlich gegenüber der Rissfestigkeit.

Eigenschaften von flüssigphasengesintertem SiC (LSiC):

  • Niedrigere Sintertemperatur: Im Vergleich zum Festkörpersintern ist die Sintertemperatur niedriger.
  • Kleinere Korngröße: Die Korngröße ist kleiner und die Körner sind gleichmäßiger.
  • Verbesserte Bruchzähigkeit: Durch die Einführung einer flüssigen Phase an den Korngrenzen verlagert sich der Bruchmodus auf interkristallinen Bruch, was die Bruchzähigkeit erheblich verbessert.
  • Additiver Einfluss: Verwendet mehrkomponentige eutektische Oxide (z. B. Y2O3-Al2O3) als Sinterhilfsmittel, die die Verdichtung fördern.
  • Reduzierte Rissempfindlichkeit: Das Flüssigphasensintern verringert die Empfindlichkeit des Materials gegenüber der Rissfestigkeit.
  • Geschwächte Grenzflächenhaftung: Die Einführung der flüssigen Phase schwächt die Bindungsstärke an den Korngrenzen.

Drucklos gesintertes Borcarbid verbindet hohe Reinheit mit den hervorragenden mechanischen Eigenschaften von Borcarbid für den Einsatz in ballistischen Panzerungen und in der Halbleiterfertigung.

Heißgepresstes SiC Vorteile:

  • Ermöglicht das Sintern bei niedrigeren Temperaturen und kürzeren Zeiten, was zu feinen Körnern, hoher relativer Dichte und guten mechanischen Eigenschaften führt.
  • Das gleichzeitige Erhitzen und Pressen erleichtert die Partikelkontaktdiffusion und den Stoffaustausch.
  • Geeignet für die Herstellung von Siliziumkarbidkeramik mit guten mechanischen Eigenschaften.

Heißgepresstes SiC hat Nachteile:

  • Die Ausrüstung und das Verfahren sind komplex.
  • Hohe Anforderungen an den Formstoff.
  • Begrenzt auf die Herstellung einfach geformter Teile.
  • Geringe Produktionseffizienz.
  • Hohe Produktionskosten.

Rekristallisiertes Siliziumkarbid (RSiC) ist eine reine Siliziumkarbidkeramik, die durch Hochtemperaturverdampfung und -kondensation hergestellt wird. Sie besitzt eine poröse, hochfeste Struktur und bietet eine ausgezeichnete Hitze-, Korrosions- und Temperaturwechselbeständigkeit, die in Brennhilfsmitteln, Düsen und chemischen Komponenten verwendet wird.

Eigenschaften und Anwendungen von rekristallisiertem SiC:

  • Das auf Verdampfung und Kondensation basierende Sinterverfahren verursacht keine Schrumpfung und verhindert so Verformungen oder Risse.
  • RSiC kann durch Verfahren wie Gießen, Strangpressen und Pressen geformt werden, und sein schrumpfungsfreies Brennen ermöglicht präzise Abmessungen.
  • Nach dem Brennen enthält rekristallisiertes RSiC eine Restporosität von 10%-20%, die in erster Linie von der Porosität des Grünlings beeinflusst wird und eine Grundlage für die Porositätskontrolle darstellt.
  • Durch den Sintermechanismus entstehen miteinander verbundene Poren, wodurch sich RSiC für Anwendungen in der Abgas- und Luftfiltration eignet.
  • RSiC weist saubere Korngrenzen auf, die frei von Glas- und Metallverunreinigungen sind, wodurch eine hohe Reinheit gewährleistet wird und die hervorragenden Eigenschaften von SiC für anspruchsvolle Hochleistungsanwendungen erhalten bleiben.

Heißisostatisch gepresstes Siliciumcarbid (HIPSiC) ist eine Hochleistungskeramik, die durch heißisostatisches Pressen hergestellt wird. Unter hoher Temperatur (etwa 2000 ℃) und gleichmäßigem Hochdruckgas (typischerweise Argon), Siliziumkarbid-Pulver wird zu einer nahezu porenfreien Struktur verdichtet.

Heißisostatisch gepresstes SiC Vorteile:

  • Gleichmäßiges Gefüge und feine Korngröße
  • Niedrige Sintertemperatur und Sinterzeit
  • Hohe Dichte
  • Hohe Reinheit und Kontrolle der Komponenten

Heißisostatisch gepresstes SiC Nachteile:

  • Schwierige Verpackungstechnik
  • Hohe Anfangsinvestitionen und Betriebskosten
  • Begrenzt für große oder komplexe Formen

Spark-Plasma-Sintern Siliciumcarbid ist eine Hochleistungskeramik, die mit Hilfe der Spark-Plasma-Sintertechnologie hergestellt wird. Bei diesem Verfahren werden gepulster Strom und Druck eingesetzt, um Siliciumcarbidpulver bei relativ niedrigen Temperaturen (etwa 1800-2000 ℃) in kurzer Zeit zu verdichten.

Spark Plasma Sintering SiC Eigenschaften:

  • Schnellere Aufheizrate
  • Niedrigere Sintertemperatur
  • Kürzere Sinterzeit
  • Feine und gleichmäßige Körner
  • Hohe Dichte
  • Anwendbar für Klein- und Präzisionsteile

Siliziumkarbid-Keramik-Bearbeitung

Ultraschallschleifen von Siliziumkarbid

Siliziumkarbid (SiC) ist ein äußerst langlebiges keramisches Material mit extremer Härte (9,5 Mohs), thermischer Stabilität (bis zu 1650 ℃) und Beständigkeit gegen Verschleiß, Korrosion und hohe Temperaturen. Die Bearbeitung von Siliciumcarbid stellt jedoch aufgrund seiner extremen Härte und Sprödigkeit eine Herausforderung dar. Um präzise Schnitte und Formen zu erzielen, sind spezielle Techniken und Werkzeuge erforderlich. Zu den gängigen Bearbeitungsmethoden gehören:

  • Diamant-Schleifen: Diamantwerkzeuge werden eingesetzt, um glatte Oberflächen und präzise Formen zu erzielen.
  • Laserschneiden: Geeignet zum Schneiden dünner SiC-Materialien. Das Laserschneiden bietet hohe Präzision und minimalen Materialabfall.
  • Ultraschall-Bearbeitung: Bei diesem Verfahren werden Hochfrequenzvibrationen eingesetzt, um spröde Materialien wie SiC zu schneiden und zu formen, ohne Risse zu verursachen.
  • Elektrische Funkenerosion (EDM): Ein nicht-traditionelles Verfahren, bei dem elektrische Funken zum Abtragen von Material verwendet werden, das für harte Keramiken wie SiC geeignet ist.
  • Schleifen mit CBN-Werkzeugen: Werkzeuge aus kubischem Bornitrid (CBN) können für das Schleifen von SiC verwendet werden und stellen für bestimmte Anwendungen eine Alternative zum Diamantschleifen dar.
  • Wasserstrahlschneiden: Schneiden von SiC mit einem Hochdruck-Wasserstrahl, manchmal mit Abrasivpartikeln. Diese Methode ist für das Schneiden komplexer Formen geeignet.

Siliziumkarbid-Keramik-Verpackungen

Siliziumkarbid-Keramikprodukte werden in der Regel in vakuumversiegelten Beuteln verpackt, um Feuchtigkeit oder Verunreinigungen zu vermeiden, und mit Schaumstoff umwickelt, um Erschütterungen und Stöße während des Transports abzufedern und die Qualität der Produkte in ihrem ursprünglichen Zustand zu gewährleisten.

Keramikprodukte Verpackung HM

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To customize your silicon carbide plate, silicon carbide sheet, or silicon carbide disc, please provide the following details:

  • Abmessungen: Länge, Breite, Durchmesser und Dicke.
  • Material Klasse: Geben Sie die Werkstoffsorten an.
  • Reinheit des Materials
  • Toleranzen: Geben Sie die Toleranzen an, die Sie akzeptieren können.
  • Oberfläche: poliert, rau, etc.
  • Menge der von Ihnen benötigten Produkte
  • Alternativ können Sie auch eine Zeichnung mit Ihren Spezifikationen.

Once we have these details, we can provide you with a quote within 24 hours. with a quote within 24 hours.

Wir haben eine Vielzahl von Bornitridprodukten auf Lager, für die in der Regel keine Mindestbestellmenge erforderlich ist. Für kundenspezifische Aufträge setzen wir jedoch in der Regel einen Mindestbestellwert von $200 fest. Die Vorlaufzeit für Lagerartikel beträgt in der Regel 1-2 Wochen, während Sonderanfertigungen in der Regel 3-4 Wochen dauern, je nach den Besonderheiten des Auftrags.

  • High-temperature resistance (up to 1600℃)
  • Extreme hardness (9.5 Mohs)
  • Chemical Corrosion resistance
  • Excellent thermal conductivity (120-200 W/m·K)
  • RBSiC contains free silicon, lower cost but limited to ≤1380℃.
  • SSiC is purer and withstands >1600℃.

Yes, SiC (120-200 W/m·K) outperforms graphite (~80 W/m·K) and has superior oxidation resistance.

Advanced Ceramic Hub wurde 2016 in Colorado, USA, gegründet und ist ein spezialisierter Anbieter und Hersteller von Graphenprodukten. Mit umfangreichem Fachwissen im Bereich Lieferung und Export bieten wir wettbewerbsfähige Preise und maßgeschneiderte Lösungen, die auf spezifische Anforderungen zugeschnitten sind und hervorragende Qualität und Kundenzufriedenheit gewährleisten. Als professioneller Anbieter von Keramik, hochschmelzenden Metallen, Speziallegierungen, kugelförmigen Pulvern und verschiedenen hochentwickelten Materialien bedienen wir die Bedürfnisse von Forschung, Entwicklung und großindustrieller Produktion in Wissenschaft und Industrie.

Siliziumkarbid Platte/Blech/Scheibe

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