Cible de pulvérisation de l'hexaboride de lanthane
Cible de pulvérisation d'hexaboride de lanthane La cible de pulvérisation d'hexaboride de lanthane est un matériau de haute performance connu pour son excellente émission d'électrons, sa...
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Cible de pulvérisation de zircone stabilisée à l'yttrium La cible de pulvérisation de zircone stabilisée à l'yttrium est un matériau céramique durable conçu pour le dépôt précis de couches minces....
Cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium Pureté : 99.9% La cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium est un matériau céramique utilisé dans les processus de...
Cible de pulvérisation en carbure de silicium Pureté : 2N5-4N Forme : Rectangulaire, disque ou tube La cible de pulvérisation en carbure de silicium est fabriquée à partir de carbure de silicium (SiC)...
Cible de pulvérisation en carbure de bore Pureté : 99.5% Forme : Rectangulaire, disque, tube La cible de pulvérisation en carbure de bore (B₄C) est un matériau de haute performance connu pour sa...
Cible de pulvérisation de nitrure d'aluminium Pureté : 99.5%-99.9% La cible de pulvérisation de nitrure d'aluminium est fabriquée à partir d'oxyde d'aluminium de haute pureté avec une composition...