Plaque, feuille et disque de nitrure de silicium

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Plaque, feuille et disque de nitrure de silicium

Pureté : ≥99%

  • Dimensions sur mesure et dimensions standard en stock
  • Prix compétitif
  • Délai d'exécution rapide
  • Silicon Nitride Plate/Sheet/Disc offers outstanding strength, hardness, and thermal shock resistance, making it suitable for use in demanding environments such as semiconductor manufacturing, aerospace components, and high-temperature structural parts. Its excellent chemical stability and electrical insulation properties also make it ideal for applications involving corrosive media or high-voltage isolation. We can supply high-quality silicon nitride plates, sheets, and discs with various specifications and competitive prices, offering customized solutions to meet specific requirements.

Ou envoyez-nous un courriel à l'adresse suivante sales@heegermaterials.com.

Silicon Nitride Plate/Sheet/Disc Data Sheet

Code de référence :

HM2563

La pureté :

≥99%

Couleur :

Noir

Formule chimique :

Si3N4

Grades de matériaux :

HMSN1000, HMSN2000, HMSN3000, HMSN4000

Densité :

3,20 g/cm3

Dimension :

personnalisé

Forme :

Rectangular, square, round

Silicon Nitride Plate/Sheet/Disc Description

Silicon Nitride Plate/Sheet/Disc is engineered from high-purity Si₃N₄ ceramic using advanced sintering techniques to deliver reliable mechanical performance under harsh conditions. These parts are valued for their low thermal expansion, high wear resistance, and stable electrical insulation, making them a solid choice for precision systems, high-speed machinery, and electronic substrates. Heeger Materials provides premium Silicon Nitride Plate/Sheet/Disc designed to meet the needs of cutting-edge industries.

Silicon Nitride Sheet Specification

Matériau

Si3N4

Size

100×100×0.5mm
130×190×0.5mm
20×20×5mm
Or customized according to specific requirements.

Silicon Nitride Plate/Sheet/Disc Features

  • High Mechanical Strength: Maintains excellent load-bearing capacity and fracture toughness even under mechanical stress or thermal gradients.
  • Superior Thermal Shock Resistance: Withstands rapid temperature changes without cracking, making it suitable for cycling in hot environments.
  • Faible dilatation thermique : Ensures dimensional stability during temperature fluctuations, minimizing thermal stress in assemblies.
  • Excellente isolation électrique : Provides high dielectric strength and low dielectric loss, ideal for power electronic applications.
  • Stabilité chimique : Resists corrosion from acids, alkalis, and molten metals, enabling long-term use in chemically aggressive settings.

Silicon Nitride Plate/Sheet/Disc Applications

  • Semiconductor Processing Equipment: Used as support plates and insulating components in wafer handling and high-temperature chambers.
  • Power Electronics: Acts as substrates or insulating layers in IGBT modules and other high-voltage devices due to its electrical insulation and thermal conductivity.
  • Aerospace Systems: Serves as thermal shields or structural parts where lightweight and heat resistance are critical.
  • Precision Machinery: Applied in wear-resistant spacers, guides, and sealing elements for demanding mechanical environments.
  • Medical and Analytical Devices: Utilized in specialized tools and fixtures where chemical inertness and cleanliness are required.

Propriétés du nitrure de silicium

Propriété

Unité

HMSN1000

HMSN2000

HMSN3000

HMSN4000

Densité

g/cm3

3.18-3.40

3.18-3.40

3.18-3.26

3.23

Résistance à la compression

MPa

3000

3000

3000

3000

Résistance à la flexion à 25°C

MPa

730

970

760-830

850

Module de Weibull m

18

20

12

18

Résistance à la rupture KIc

MPa m1/2

7

6.2

6.2-6.5

8.5

Module de Young

GPa

300

300

300-310

320

Rapport de Poisson

0.26

0.26

0.26

0.28

Dureté

GPa

15

15

15.3-15.6

16

Propriété

Unité

HMSN1000

HMSN2000

HMSN3000

HMSN4000

Conductivité thermique à 20°C

W/mK

25

24

25

28

Paramètre de choc thermique R1

K

558

748

590-620

700

Paramètre de choc thermique R2

W/m

14

18

15

19

CTE1 25°C ➞ 250°C

10-6/K

1.9

1.9

1.9

1.9

CTE1 25°C ➞ 1000°C

10-6/K

3.2

3.2

3.2

3.2

Température maximale (inerte) 2

°C

1400

1400

1400

1400

Température maximale (oxydation) 2

°C

1200

1200

1200

1200

Propriété

Unité

HMSN1000

HMSN2000

HMSN3000

HMSN4000

Résistivité volumique à 25°C

ohm-cm

1014

1014

1014

1012

Rigidité diélectrique DC @ 25°C

kV/mm

19

19

19

19

Constante diélectrique

1 MHz

8

8

8

7

Grades de matériaux en nitrure de silicium

Le HMSN1000 est produit par une technique de frittage par surpression de gaz, largement reconnue pour permettre la fabrication de pièces en nitrure de silicium à haute résistance et aux formes complexes. Le processus commence par un mélange de poudres de nitrure de silicium qui comprend des additifs de frittage, tels que l'yttrium, l'oxyde de magnésium ou l'alumine, pour créer une phase liquide pendant le frittage, ainsi que des liants pour améliorer l'intégrité structurelle de la forme pré-frittée. Après avoir façonné la poudre dans la géométrie souhaitée et effectué tout usinage vert nécessaire, les composants sont densifiés dans un four pressurisé à l'azote. Cet environnement assure une bonne consolidation tout en minimisant la perte de matière due à l'évaporation ou à la décomposition du silicium, de l'azote et des éléments additifs.

Utilisations courantes

  • Composants pour systèmes aérospatiaux
  • Éléments roulants et coulissants des paliers
  • Pièces à haute durabilité pour moteurs à combustion interne
  • Outils et accessoires pour la coulée et le traitement des métaux
  • Pièces structurelles dans les assemblages mécaniques
  • Éléments biocompatibles pour dispositifs médicaux

Le HMSN2000 est fabriqué à l'aide d'une technique de pressage à chaud, où la poudre de nitrure de silicium est compactée simultanément sous haute pression et à température élevée. Cette méthode fait appel à des équipements spécialisés, notamment des matrices de précision et des presses uniaxiales. Il en résulte une céramique dense d'une résistance et d'une durabilité exceptionnelles. Toutefois, en raison des limites de l'équipement, ce procédé convient mieux à la formation de géométries de base. Comme les composants ne peuvent pas être usinés à l'état pré-fritté (vert), tout le post-traitement doit être effectué par meulage au diamant, ce qui est à la fois long et coûteux. Par conséquent, cette méthode est généralement réservée à la production à petite échelle de pièces simples pour lesquelles des performances matérielles supérieures sont requises.

Utilisations courantes

  • Pièces structurelles dans les systèmes aéronautiques et spatiaux
  • Équipements et composants de tuyauterie dans les industries de transformation chimique
  • Éléments résistants au frottement pour moteurs
  • Outils et pièces d'usure utilisés dans les environnements de moulage de métaux
  • Pièces portantes et de précision dans les machines industrielles
  • Pièces spécialisées dans les instruments médicaux et dentaires

Le HMSN3000 utilise le procédé de pressage isostatique à chaud (HIP), dans lequel la poudre de nitrure de silicium est compactée sous haute pression et à haute température. Le matériau est placé dans une chambre pressurisée avec un gaz inerte, soumettant le composant à une pression uniforme de tous les côtés, jusqu'à 2000 bars, tout en le chauffant. Cette méthode permet d'éliminer toute porosité résiduelle ou tout défaut pendant le processus de frittage, ce qui permet d'obtenir un matériau dont la densité est proche de son maximum théorique. Bien que le procédé HIP améliore considérablement les propriétés mécaniques, la durabilité et la fiabilité globale du matériau, son coût élevé et sa complexité en limitent l'utilisation à des applications très spécialisées.

Utilisations courantes

  • Composants pour les industries de l'aérospatiale et de la défense
  • Applications de roulements de précision, en particulier dans les environnements à haute performance
  • Équipements et composants dans les usines de traitement chimique et les installations industrielles
  • Pièces du moteur soumises à une usure et à des contraintes thermiques extrêmes
  • Outils de fonderie et composants résistants à l'usure
  • Pièces de haute performance pour les systèmes d'ingénierie mécanique
  • Composants médicaux nécessitant une résistance et une biocompatibilité élevées

HMSN4000 est produit par un processus de frittage à surpression de gaz extrudé, où la poudre de nitrure de silicium est mélangée à des additifs de frittage, tels que l'yttrium, l'oxyde de magnésium et/ou l'alumine, pour faciliter le frittage en phase liquide. En outre, des liants sont incorporés pour améliorer les propriétés mécaniques de la structure en céramique verte. Le processus d'extrusion permet de donner au matériau la forme souhaitée, puis les pièces sont soumises à un frittage par surpression de gaz dans un environnement contrôlé. Cette méthode garantit une densité uniforme et des performances mécaniques supérieures, ce qui la rend idéale pour les applications à hautes performances.

Utilisations courantes

  • Composants de l'industrie aérospatiale
  • Roulements utilisés dans les machines à haute performance
  • Équipement pour les usines chimiques et le traitement industriel
  • Pièces résistantes à l'usure pour les moteurs
  • Composants utilisés dans les opérations de fonderie
  • Pièces pour systèmes d'ingénierie mécanique
  • Composants de qualité médicale pour instruments de haute précision

Usinage de la céramique de nitrure de silicium

Usinage de la céramique de nitrure de silicium

Le nitrure de silicium peut être usiné sous forme verte, biscuitée ou entièrement frittée, chacune ayant des propriétés d'usinage différentes. À l'état vert ou biscuit, il est plus facile de lui donner des formes complexes, mais le matériau se rétracte d'environ 20% pendant le frittage, ce qui affecte la précision des dimensions. Pour obtenir des tolérances serrées, le nitrure de silicium entièrement fritté doit être usiné à l'aide d'outils diamantés, un processus précis mais coûteux en raison de la dureté et de la ténacité du matériau.

Méthodes d'usinage et considérations :

  • Usinage en vert ou en biscuit : Plus facile à usiner dans des formes complexes, mais manque de précision dimensionnelle finale.
  • Rétrécissement par frittage : Le matériau se rétracte d'environ 20% au cours du processus de frittage, ce qui affecte les dimensions après frittage.
  • Tolérances serrées : Pour obtenir des dimensions précises, le matériau post-fritté doit être usiné à l'aide d'outils diamantés.
  • Meulage au diamant : Cette technique implique l'utilisation d'outils ou de meules revêtus de diamant pour abraser le matériau et obtenir la forme souhaitée.
  • Coût et délai : L'usinage du nitrure de silicium entièrement dense est un processus lent et coûteux en raison de la dureté et de la résistance du matériau.

Emballage en céramique de nitrure de silicium

Les produits céramiques à base de nitrure de silicium sont généralement emballés dans des sacs scellés sous vide pour éviter l'humidité ou la contamination et enveloppés de mousse pour amortir les vibrations et les chocs pendant le transport, ce qui garantit la qualité des produits dans leur état d'origine.

emballage de produits céramiques HM

Obtenir un devis

Nous vérifierons et reviendrons vers vous dans les 24 heures.

TTo customize your silicon nitride plate, silicon nitride sheet, or silicon nitride disc, please provide the following details:

  • Dimensions: Longueur, largeur, diamètre et épaisseur.
  • Qualité des matériaux: Préciser les catégories de matériaux.
  • La pureté de la matière
  • Tolérances: Spécifiez les tolérances que vous pouvez accepter.
  • Finition de la surface : polis, bruts, etc.
  • Quantité des produits dont vous avez besoin
  • Vous pouvez également fournir un dessin avec vos spécifications.

Une fois que nous aurons reçu ces informations, nous pourrons vous fournir un devis dans les 24 heures.

Nous avons en stock une grande variété de produits à base de nitrure de bore et pour ceux-ci, il n'y a généralement pas de minimum de commande. Toutefois, pour les commandes personnalisées, nous fixons généralement une valeur minimale de $200. Le délai de livraison des produits en stock est généralement de 1 à 2 semaines, tandis que celui des commandes personnalisées est de 3 à 4 semaines, en fonction des spécificités de la commande.

Compared to alumina or zirconia, silicon nitride plate/sheet/disc offers superior fracture toughness, thermal shock resistance, and thermal conductivity, making it more reliable in demanding environments.

Yes, silicon nitride is chemically stable and resistant to acids, alkalis, and oxidation, allowing it to perform well in harsh chemical conditions.

Advanced Ceramic Hub, établi en 2016 dans le Colorado, aux États-Unis, est un fournisseur spécialisé et un fabricant de produits à base de graphène. Avec une grande expertise dans l'approvisionnement et l'exportation, nous offrons des prix compétitifs et des solutions personnalisées adaptées à des exigences spécifiques, garantissant une qualité exceptionnelle et la satisfaction du client. En tant que fournisseur professionnel de céramiques, de métaux réfractaires, d'alliages spéciaux, de poudres sphériques et de divers matériaux avancés, nous répondons aux besoins de recherche, de développement et de production industrielle à grande échelle des secteurs scientifique et industriel.

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